| 中文摘要 | 第1-8页 |
| 英文摘要 | 第8-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-38页 |
| 2．1 引言 | 第12-13页 |
| 2．2 直拉重掺B硅单晶的性质概述 | 第13-14页 |
| 2．3 硅中的氧 | 第14-22页 |
| 2．3．1 氧的引入 | 第15-17页 |
| 2．3．2 氧的固溶度 | 第17页 |
| 2．3．3 氧的扩散 | 第17-18页 |
| 2．3．4 氧的测量 | 第18-21页 |
| 2．3．5 重掺硼中氧 | 第21-22页 |
| 2．4 硅中的氧沉淀及相关缺陷 | 第22-28页 |
| 2．4．1 氧沉淀 | 第22-24页 |
| 2．4．2 氧沉淀的形态 | 第24-25页 |
| 2．4．3 重掺硼硅单晶中的氧沉淀 | 第25-26页 |
| 2．4．4 重掺硼硅单晶中的氧沉淀形态和密度 | 第26页 |
| 2．4．5 重掺硼中的缺陷研究 | 第26-28页 |
| 2．5 硅片的内吸杂 | 第28-31页 |
| 2．5．1 吸杂概念 | 第28-29页 |
| 2．5．2 重掺硅片的内吸杂 | 第29-30页 |
| 2．5．3 RTP热处理获得洁净区 | 第30-31页 |
| 2．6 氧沉淀和相关缺陷的观测 | 第31-33页 |
| 2．6．1 腐蚀显示技术 | 第31-33页 |
| 2．6．2 电子显微技术 | 第33页 |
| 2．6．3 红外吸收光谱（FTIR）技术 | 第33页 |
| 2．7 重掺硼硅单晶其他研究进展 | 第33-37页 |
| 2．7．1 无缩颈生长无位错硅单晶技术 | 第33-35页 |
| 2．7．2 重掺B硅单晶中机械强度的研究 | 第35-36页 |
| 2．7．3 B的掺杂与空洞型（Void）原生缺陷的控制 | 第36-37页 |
| 2．8 本工作主要研究内容 | 第37-38页 |
| 第三章 直拉重掺硼硅单晶中的氧沉淀行为的研究 | 第38-50页 |
| 3．1 引言 | 第38-39页 |
| 3．2 实验 | 第39-41页 |
| 3．2．1 实验样品 | 第39页 |
| 3．2．2 样品制备 | 第39-40页 |
| 3．2．3 样品处理、观察 | 第40-41页 |
| 3．3 实验结果与分析 | 第41-49页 |
| 3．3．1 实验结果 | 第41-47页 |
| 3．3．2 结果分析 | 第47-49页 |
| 3．4 小结 | 第49-50页 |
| 第四章 重掺硼硅单晶内吸杂研究 | 第50-60页 |
| 4．1 引言 | 第50-51页 |
| 4．2 实验 | 第51-53页 |
| 4．2．1 实验样品 | 第51页 |
| 4．2．2 样品制备 | 第51-53页 |
| 4．2．3 样品观察 | 第53页 |
| 4．3 实验结果及分析 | 第53-58页 |
| 4．3．1 实验结果 | 第53-55页 |
| 4．3．2 结果分析 | 第55-58页 |
| 4．4 小结 | 第58-60页 |
| 第五章 重掺B硅片快速热处理（RTP）研究 | 第60-75页 |
| 5．1 引言 | 第60-61页 |
| 5．2 实验 | 第61-63页 |
| 5．2．1 实验样品 | 第61页 |
| 5．2．2 样品制备 | 第61-62页 |
| 5．2．3 样品观察 | 第62-63页 |
| 5．3 实验结果与分析 | 第63-73页 |
| 5．3．1 实验结果 | 第63-67页 |
| 5．3．2 实验结果分析与讨论 | 第67-73页 |
| 5．4 小结 | 第73-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |