| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| 1．1 选题意义 | 第10-11页 |
| 1．2 热浸镀技术 | 第11-17页 |
| 1．2．1 热浸镀工艺概述 | 第11-13页 |
| 1．2．2 钢材热浸镀铝合金层的形成机理 | 第13-15页 |
| 1．2．3 影响热浸镀铝合金层厚度的因素 | 第15-16页 |
| 1．2．4 热浸镀铝层的性能及其应用 | 第16-17页 |
| 1．3 微弧氧化技术 | 第17-30页 |
| 1．3．1 铝及其合金的阳极氧化 | 第17-20页 |
| 1．3．2 微弧氧化与阳极氧化的区别与联系 | 第20页 |
| 1．3．3 微弧氧化的发展简史 | 第20-22页 |
| 1．3．4 微弧氧化陶瓷层生成的条件 | 第22-24页 |
| 1．3．5 微弧氧化的现象及原理 | 第24-25页 |
| 1．3．6 微弧氧化陶瓷层的组织结构与相组成 | 第25-26页 |
| 1．3．7 微弧氧化陶瓷层的尺寸变化规律 | 第26-28页 |
| 1．3．8 起弧电压及电流效率 | 第28页 |
| 1．3．9 微弧氧化的优越性、陶瓷层的性能及应用前景 | 第28-30页 |
| 第2章 实验方案的确定 | 第30-33页 |
| 2．1 Q235钢表面热镀铝方案 | 第30-32页 |
| 2．1．1 热镀铝方法的选择 | 第30页 |
| 2．1．2 铝液表面覆盖熔剂的选择 | 第30-31页 |
| 2．1．3 前处理碱洗液、酸洗液的选择 | 第31页 |
| 2．1．4 热浸镀工艺参数的选择 | 第31页 |
| 2．1．5 热浸镀工艺流程 | 第31-32页 |
| 2．2 微弧氧化方案的确定 | 第32页 |
| 2．2．1 实验基体材料及所用的电源 | 第32页 |
| 2．2．2 微弧氧化工艺参数的选择 | 第32页 |
| 2．2．3 微弧氧化工艺流程的确定 | 第32页 |
| 2．3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 实验研究方法 | 第33-37页 |
| 3．1 实验设备 | 第33-34页 |
| 3．1．1 热浸镀铝实验设备 | 第33页 |
| 3．1．2 微弧氧化设备 | 第33-34页 |
| 3．2 镀层的显微组织及相组成分析 | 第34页 |
| 3．3 镀层性能测定 | 第34-36页 |
| 3．3．1 耐蚀性能的测定 | 第34-35页 |
| 3．3．2 耐磨性能的测定 | 第35-36页 |
| 3．3．3 硬度及孔隙率的测量 | 第36页 |
| 3．3．4 其它称量仪器 | 第36页 |
| 3．4 实验数据的处理方法 | 第36页 |
| 3．5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 实验结果及分析 | 第37-72页 |
| 4．1 Q235钢表面热浸镀铝的实验结果 | 第37-41页 |
| 4．1．1 工艺参数对热镀铝层总厚度及合金层厚度的影响规律 | 第37-38页 |
| 4．1．2 热浸镀层的相组成 | 第38-39页 |
| 4．1．3 热浸镀层的断面组织形貌 | 第39页 |
| 4．1．4 热浸镀铝层的质量对后续微弧氧化的影响因素 | 第39-41页 |
| 4．2 利于微弧氧化的热浸镀铝条件 | 第41页 |
| 4．3 热浸镀铝层微弧氧化的实验结果 | 第41-63页 |
| 4．3．1 微弧氧化电解液的选择 | 第41-42页 |
| 4．3．2 工艺参数对微弧氧化陶瓷层总厚度及成膜速度的影响 | 第42-46页 |
| 4．3．3 工艺参数对陶瓷层向外生长厚度的影响 | 第46-47页 |
| 4．3．4 工艺参数对陶瓷层向内生长厚度的影响 | 第47-49页 |
| 4．3．5 陶瓷层向内外生长的比例关系 | 第49-51页 |
| 4．3．6 电流密度对陶瓷层厚度最大值的影响 | 第51页 |
| 4．3．7 Q235钢表面复合镀层的断面形貌 | 第51-52页 |
| 4．3．8 微弧氧化陶瓷层的表面形貌 | 第52-55页 |
| 4．3．9 陶瓷层的相组成 | 第55-57页 |
| 4．3．10 陶瓷层的TEM实验结果 | 第57-63页 |
| 4．4 微弧氧化陶瓷层的性能 | 第63-67页 |
| 4．4．1 微弧氧化陶瓷层的耐蚀性能 | 第63-65页 |
| 4．4．2 微弧氧化陶瓷层的耐磨性能 | 第65页 |
| 4．4．3 Q235钢表面复合膜层的硬度 | 第65-66页 |
| 4．4．4 微弧氧化陶瓷层的孔隙率 | 第66-67页 |
| 4．5 探索性研究 | 第67-70页 |
| 4．5．1 电解液对生成陶瓷层的相组成及表面形貌的影响 | 第67-68页 |
| 4．5．2 热浸镀Al-Si层的微弧氧化 | 第68-70页 |
| 4．6 本章小结 | 第70-72页 |
| 第5章 讨论 | 第72-82页 |
| 5．1 热浸镀铝层微弧氧化陶瓷化的条件 | 第72-73页 |
| 5．2 微弧氧化陶瓷膜的形成过程 | 第73-75页 |
| 5．3 微弧氧化试样尺寸及陶瓷层厚度的变化规律 | 第75-76页 |
| 5．4 微弧氧化的反应机理 | 第76-79页 |
| 5．5 热浸镀铝微弧氧化陶瓷层的耐蚀性分析 | 第79-80页 |
| 5．6 本实验的创新点、存在的不足以及对以后工作的展望 | 第80-81页 |
| 5．7 本章小结 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-88页 |
| 附录 | 第88-94页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95页 |
