| 第一章 前言 | 第1-8页 |
| 第二章 实验材料与实验方法 | 第8-26页 |
| 2．1 实验材料 | 第8-12页 |
| 2．2 实验方法及设备原理简介 | 第12-26页 |
| 2．2．1 激光处理的设备及工作原理 | 第13-15页 |
| 2．2．2 强流脉冲电子束处理的设备及工作原理 | 第15-21页 |
| 2．2．3 强流脉冲离子束处理的设备及工作原理 | 第21-24页 |
| 2．2．4 电弧离子镀处理的设备及工作原理 | 第24-26页 |
| 2．3 实验分析用仪器 | 第26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第三章 实验结果及分析讨论 | 第28-59页 |
| 3．1 激光处理工艺及结果分析 | 第28-34页 |
| 3．1．1 样品分组及实验参数 | 第28-29页 |
| 3．1．2 淬火后组织形貌分析及硬度测试 | 第29-32页 |
| 3．1．3 激光淬火后成分分析 | 第32-34页 |
| 3．2 电子束处理工艺及结果分析 | 第34-44页 |
| 3．2．1 热熔层的厚度及处理后的表面形貌分析 | 第35-38页 |
| 3．2．2 脉冲电子束轰击处理后的成分分析 | 第38-43页 |
| 3．2．3 脉冲电子束轰击处理后的硬度测试 | 第43-44页 |
| 3．3 离子束处理工艺及结果分析 | 第44-58页 |
| 3．3．1 强流脉冲离子束处理工艺及结果分析 | 第44-54页 |
| （1） 试样的分组及处理条件 | 第44-45页 |
| （2） 表面形貌分析 | 第45-49页 |
| （3） 离子束处理后的成分分析 | 第49-52页 |
| （4） 显微硬度测试 | 第52-54页 |
| 3．3．2 电弧离子镀镀膜工艺及结果分析 | 第54-58页 |
| （1） 试样涂覆TiN膜层后的表面形貌及TiN膜层的厚度 | 第54页 |
| （2） 涂覆TiN膜层后膜基界面的划痕试验 | 第54-56页 |
| （3） TiN膜的成分及过渡层成分 | 第56-57页 |
| （4） 显微硬度测试 | 第57-58页 |
| 3．4 本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第四章 结论 | 第60-63页 |
| 4．1 激光束处理 | 第60页 |
| 4．2 电子束处理 | 第60-61页 |
| 4．3 离子束处理 | 第61-62页 |
| 4．3．1 强流脉冲离子束轰击处理 | 第61页 |
| 4．3．2 电弧离子镀TiN硬质薄膜处理 | 第61-62页 |
| 4．4 总结 | 第62-63页 |
| 展望 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66页 |