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GaN肖特基器件电学性质的模拟研究

中文摘要第1-11页
ABSTRACT第11-12页
符号说明第12-14页
第一章 绪论第14-33页
   ·紫外探测器第14-15页
   ·紫外探测器的发展第15-17页
   ·GaN基紫外探测器的分类与性能第17-25页
     ·光导探测器第17-18页
     ·光伏探测器第18-25页
       ·肖特基器件第19-21页
       ·MSM器件第21-23页
       ·p-n,p-i-n型探测器第23-24页
       ·GaN雪崩器件第24-25页
   ·GaN基材料的物理特性第25-28页
     ·GaN基材料的结构特性第25-27页
     ·GaN基材料的能带结构第27-28页
     ·GaN材料的电学特性第28页
   ·研究内容及论文的安排第28-29页
 参考文献第29-33页
第二章 ISE TCAD软件介绍第33-45页
   ·TCAD的发展第33-34页
   ·ISE TCAD软件的简介第34-44页
     ·工艺模拟第34-35页
     ·器件模拟第35-44页
       ·DEVISE简介第37-38页
       ·DESSIS简介第38-41页
       ·INSPECT简介第41-42页
       ·Tecplot-ISE简介第42-44页
   ·TCAD在半导体行业中的应用第44页
 参考文献第44-45页
第三章 肖特基器件电学性质的研究第45-63页
   ·金属-半导体接触概述第45-47页
     ·欧姆接触第45-46页
     ·肖特基势垒接触第46-47页
   ·肖特基器件电流传输的物理机制第47-50页
   ·提高肖特基势垒高度的方法第50-51页
   ·理论模型的选择及其分析描述第51-54页
   ·仿真结果及分析第54-61页
     ·电流-电压特性的仿真结果分析第55-59页
       ·不同厚度界面层的正向I-V特性第55-56页
       ·不同厚度界面层的反向I-V特性第56-57页
       ·不同厚度本征层的正向I-V特性第57-58页
       ·不同厚度本征层的反向I-V特性第58-59页
     ·电场特性的模拟结果及分析第59-61页
       ·不同厚度界面层器件的电场特性第59-60页
       ·不同厚度本征层器件的电场特性第60-61页
   ·小结第61页
 参考文献第61-63页
第四章 GaN雪崩器件电学性质的模拟第63-77页
   ·引言第63-64页
   ·GaN基雪崩光电二极管的研究现状第64-65页
   ·光电二极管的暗电流机制第65-66页
   ·GaN的p型掺杂问题第66-68页
   ·仿真模型结构描述第68-70页
   ·仿真结果分析讨论第70-73页
   ·小结第73-74页
 参考文献第74-77页
第五章 结论第77-78页
致谢第78-79页
攻读硕士期间发表的学术论文第79-80页
学位论文评阅及答辩情况表第80页

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