GaN肖特基器件电学性质的模拟研究
中文摘要 | 第1-11页 |
ABSTRACT | 第11-12页 |
符号说明 | 第12-14页 |
第一章 绪论 | 第14-33页 |
·紫外探测器 | 第14-15页 |
·紫外探测器的发展 | 第15-17页 |
·GaN基紫外探测器的分类与性能 | 第17-25页 |
·光导探测器 | 第17-18页 |
·光伏探测器 | 第18-25页 |
·肖特基器件 | 第19-21页 |
·MSM器件 | 第21-23页 |
·p-n,p-i-n型探测器 | 第23-24页 |
·GaN雪崩器件 | 第24-25页 |
·GaN基材料的物理特性 | 第25-28页 |
·GaN基材料的结构特性 | 第25-27页 |
·GaN基材料的能带结构 | 第27-28页 |
·GaN材料的电学特性 | 第28页 |
·研究内容及论文的安排 | 第28-29页 |
参考文献 | 第29-33页 |
第二章 ISE TCAD软件介绍 | 第33-45页 |
·TCAD的发展 | 第33-34页 |
·ISE TCAD软件的简介 | 第34-44页 |
·工艺模拟 | 第34-35页 |
·器件模拟 | 第35-44页 |
·DEVISE简介 | 第37-38页 |
·DESSIS简介 | 第38-41页 |
·INSPECT简介 | 第41-42页 |
·Tecplot-ISE简介 | 第42-44页 |
·TCAD在半导体行业中的应用 | 第44页 |
参考文献 | 第44-45页 |
第三章 肖特基器件电学性质的研究 | 第45-63页 |
·金属-半导体接触概述 | 第45-47页 |
·欧姆接触 | 第45-46页 |
·肖特基势垒接触 | 第46-47页 |
·肖特基器件电流传输的物理机制 | 第47-50页 |
·提高肖特基势垒高度的方法 | 第50-51页 |
·理论模型的选择及其分析描述 | 第51-54页 |
·仿真结果及分析 | 第54-61页 |
·电流-电压特性的仿真结果分析 | 第55-59页 |
·不同厚度界面层的正向I-V特性 | 第55-56页 |
·不同厚度界面层的反向I-V特性 | 第56-57页 |
·不同厚度本征层的正向I-V特性 | 第57-58页 |
·不同厚度本征层的反向I-V特性 | 第58-59页 |
·电场特性的模拟结果及分析 | 第59-61页 |
·不同厚度界面层器件的电场特性 | 第59-60页 |
·不同厚度本征层器件的电场特性 | 第60-61页 |
·小结 | 第61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
第四章 GaN雪崩器件电学性质的模拟 | 第63-77页 |
·引言 | 第63-64页 |
·GaN基雪崩光电二极管的研究现状 | 第64-65页 |
·光电二极管的暗电流机制 | 第65-66页 |
·GaN的p型掺杂问题 | 第66-68页 |
·仿真模型结构描述 | 第68-70页 |
·仿真结果分析讨论 | 第70-73页 |
·小结 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
第五章 结论 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第79-80页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第80页 |