| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1. 绪论 | 第11-21页 |
| ·二氧化钛的光催化机理及其应用 | 第11-13页 |
| ·二氧化钛的光催化机理 | 第12页 |
| ·二氧化钛的应用 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射法 | 第14页 |
| ·电子束蒸发法 | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16页 |
| ·二氧化钛薄膜的改性及研究进展 | 第16-20页 |
| ·过渡金属离子掺杂改性 | 第17-18页 |
| ·贵金属离子掺杂改性 | 第18页 |
| ·稀土金属掺杂改性 | 第18-19页 |
| ·非金属掺杂改性 | 第19页 |
| ·与窄带半导体复合的研究进展 | 第19-20页 |
| ·本文的研究目的与内容 | 第20-21页 |
| 2 二氧化钛掺杂薄膜的制备技术及其结构和性质分析方法 | 第21-31页 |
| ·实验材料及仪器 | 第21页 |
| ·本实验的蒸发镀膜工艺 | 第21-27页 |
| ·电子束蒸发法 | 第21-24页 |
| ·靶材的制备及其表征 | 第24-26页 |
| ·蒸发镀膜工艺流程 | 第26-27页 |
| ·薄膜的结构表征与性能测试 | 第27-31页 |
| ·拉曼光谱 | 第27-28页 |
| ·X-射线衍射仪 | 第28页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第28页 |
| ·原子力显微镜 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第29页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第29页 |
| ·光化学反应仪 | 第29-31页 |
| 3 La-TiO_2薄膜的制备工艺对其结构和形貌的影响 | 第31-60页 |
| ·不同退火时间对TiO_2薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| ·薄膜的制备 | 第31页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第31-32页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第32-33页 |
| ·不同退火温度对La-TiO_2薄膜结构的影响 | 第33-44页 |
| ·掺杂比例为2.5wt%的La-TiO_2薄膜 | 第33-35页 |
| ·掺杂比例为5wt%的La-TiO_2薄膜 | 第35-38页 |
| ·掺杂比例为10wt%的La-TiO_2薄膜 | 第38-40页 |
| ·掺杂比例为15wt%的La-TiO_2薄膜 | 第40-42页 |
| ·掺杂比例为20wt%的La-TiO_2薄膜 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44页 |
| ·不同基底对La-TiO_2薄膜结构的影响 | 第44-54页 |
| ·掺杂比例为2.5wt%的La-TiO_2薄膜 | 第44-46页 |
| ·掺杂比例为5wt%的La-TiO_2薄膜 | 第46-48页 |
| ·掺杂比例为10wt%的La-TiO_2薄膜 | 第48-50页 |
| ·掺杂比例为15wt%的La-TiO_2薄膜 | 第50-52页 |
| ·掺杂比例为20wt%的La-TiO_2薄膜 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54页 |
| ·La掺杂含量对薄膜结构的影响 | 第54-59页 |
| ·薄膜的制备 | 第54-55页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第55页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第55-56页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第56-57页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第57-58页 |
| ·薄膜的UV-Vis分析 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| 4 硅掺杂二氧化钛薄膜的制备与结构分析 | 第60-67页 |
| ·不同基底对薄膜结构的影响 | 第60-61页 |
| ·薄膜的制备 | 第60页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第60-61页 |
| ·不同退火温度对薄膜结构的影响 | 第61-66页 |
| ·薄膜的制备 | 第61页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第61-62页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第62-63页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第63-64页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第64页 |
| ·薄膜的SEM分析 | 第64-65页 |
| ·UV-Vis分析 | 第65-66页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| 5 TiO_2及其掺杂薄膜的光催化性质 | 第67-74页 |
| ·罗丹明B溶液初始浓度对光催化活性的影响 | 第67-68页 |
| ·光源对罗丹明B溶液降解率的影响 | 第68页 |
| ·不同掺杂比例的La-TiO_2薄膜对罗丹明B溶液光催化降解率的影响 | 第68-69页 |
| ·不同基底对罗丹明B溶液光催化降解率的影响 | 第69-71页 |
| ·空白基底对罗丹明B溶液光催化降解率的影响 | 第70页 |
| ·不同基底对La-TiO_2薄膜的光催化降解率的影响 | 第70-71页 |
| ·不同基底对Si-TiO_2薄膜的光催化活性的影响 | 第71页 |
| ·不同退火温度的薄膜对罗丹明B溶液的光催化降解率的影响 | 第71-73页 |
| ·不同退火温度对La-TiO_2薄膜的光催化活性的影响 | 第72页 |
| ·不同退火温度对Si-TiO_2薄膜的光催化活性的影响 | 第72-73页 |
| ·本章总结 | 第73-74页 |
| 全文结论 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 附录 | 第83页 |
