基于SU-8胶的电喷雾聚焦电极微制作工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·电喷雾电离技术(ESI)的概述 | 第8页 |
| ·电喷雾电离(ESI)发生的原理 | 第8-11页 |
| ·纳升电喷雾的引入 | 第11-12页 |
| ·电喷雾电离离子聚焦结构的发展 | 第12-16页 |
| ·本课题研究的意义和主要内容 | 第16-18页 |
| 2 聚焦电极设计 | 第18-28页 |
| ·SU-8胶的选用 | 第18-24页 |
| ·SU-8胶化学特性和光刻机理 | 第18-19页 |
| ·SU-8胶光刻工艺 | 第19-24页 |
| ·电极结构设计 | 第24-25页 |
| ·电极电势线模拟 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-28页 |
| 3 聚焦电极制作 | 第28-51页 |
| ·基底的选择 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28页 |
| ·制作对准标记点 | 第28-37页 |
| ·干法刻蚀简介 | 第28-33页 |
| ·干刻选择比测试 | 第33-35页 |
| ·标记点图形设计 | 第35页 |
| ·标记点的制作工艺 | 第35-36页 |
| ·SUSS光刻机对准原理 | 第36-37页 |
| ·三层SU-8结构制作 | 第37-43页 |
| ·牺牲层技术简介 | 第37-41页 |
| ·掩膜版设计 | 第41页 |
| ·三层结构制作工艺 | 第41-43页 |
| ·制作结果分析 | 第43-47页 |
| ·SU-8胶电极形状要求 | 第43-44页 |
| ·牺牲层的选择 | 第44-45页 |
| ·使用标记点对准结果 | 第45-46页 |
| ·消除三层结构底部裂纹 | 第46-47页 |
| ·制作成电极 | 第47-49页 |
| ·热蒸发镀膜简介 | 第47-49页 |
| ·实验中热蒸发镀膜参数 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 4 聚焦电极的测试 | 第51-55页 |
| ·测试系统的搭建 | 第51页 |
| ·电喷雾实验设定 | 第51-53页 |
| ·测试结果分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
