| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 目录 | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-47页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·AZO透明导电薄膜背景介绍 | 第13-35页 |
| ·透明导电薄膜简介 | 第13-15页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第15-17页 |
| ·AZO薄膜中的缺陷与导电机制 | 第17-24页 |
| ·AZO薄膜的制备方法 | 第24-29页 |
| ·AZO薄膜的应用 | 第29-32页 |
| ·工业化生产及市场 | 第32-35页 |
| ·磁控溅射制备AZO薄膜的研究现状 | 第35-37页 |
| ·影响AZO薄膜性能的磁控溅射工艺参数 | 第35-36页 |
| ·磁控溅射制备AZO薄膜的性能回顾 | 第36-37页 |
| ·大型磁控溅射镀膜设备RAS-1100C简介 | 第37-39页 |
| ·样品的制备及表征 | 第39-40页 |
| ·本文的研究内容 | 第40页 |
| 参考文献 | 第40-47页 |
| 第二章 陶瓷靶溅射制备AZO薄膜 | 第47-89页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·溅射参数对AZO薄膜性能的影响 | 第47-63页 |
| ·氧化区氧气流的影响 | 第47-49页 |
| ·烘烤温度的影响 | 第49-52页 |
| ·氩气流速的影响 | 第52-56页 |
| ·溅射功率的影响 | 第56-60页 |
| ·鼓转速的影响 | 第60-63页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第63-66页 |
| ·增加缓冲层等工艺的影响 | 第66-72页 |
| ·实验简介 | 第66-67页 |
| ·AZO同质缓冲层的作用 | 第67-70页 |
| ·其它对比实验 | 第70-72页 |
| ·靶前不同位置沉积薄膜电阻率的空间分布 | 第72-81页 |
| ·陶瓷靶溅射过程中的反向沉积薄膜 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 第三章 金属靶制备AZO薄膜的基础研究 | 第89-143页 |
| ·引言 | 第89页 |
| ·金属靶溅射制备锌氧化物薄膜的微结构形貌及物性演化研究 | 第89-128页 |
| ·实验介绍 | 第89-91页 |
| ·溅射电压及气压的变化 | 第91-92页 |
| ·反向沉积薄膜的微结构形貌相图及物性演化 | 第92-106页 |
| ·正向沉积薄膜的微结构形貌相图及物性演化 | 第106-128页 |
| ·金属靶溅射过程中的反溅射现象研究 | 第128-138页 |
| ·金属锌靶溅射过程中的反溅射现象 | 第128-132页 |
| ·锌铝合金靶溅射过程中的反溅射现象 | 第132-135页 |
| ·锌靶铝靶共溅射过程中的反溅射现象 | 第135-138页 |
| ·金属锌靶、铝靶共溅射制备AZO薄膜的一些初步结果 | 第138-140页 |
| ·本章小结 | 第140页 |
| 参考文献 | 第140-143页 |
| 第四章 后续退火处理的影响及讨论 | 第143-173页 |
| ·引言 | 第143页 |
| ·不同气氛下退火处理的影响 | 第143-150页 |
| ·AZO薄膜氢气气氛退火对比实验研究 | 第150-166页 |
| ·ZnO薄膜的氢气退火现象 | 第150-151页 |
| ·陶瓷靶制备AZO薄膜的氢气退火实验 | 第151-162页 |
| ·金属Zn、Al靶共溅射制备的AZO薄膜的氢气退火实验 | 第162-165页 |
| ·氢气退火样品的稳定性 | 第165-166页 |
| ·关于陶瓷靶溅射制备的AZO薄膜略带淡黄色的讨论 | 第166-168页 |
| ·本章小结 | 第168-169页 |
| 参考文献 | 第169-173页 |
| 第五章 RAS制备AZO薄膜的性能总结与展望 | 第173-180页 |
| ·RAS制备AZO样品性能总结 | 第173-174页 |
| ·进一步改善AZO薄膜性能的建议 | 第174-177页 |
| 参考文献 | 第177-180页 |
| 附录 | 第180-194页 |
| 附录一:膜厚分布的模拟计算 | 第180-185页 |
| 附录二:磁控溅射制备纳米金属锌膜及其氧化物对甲基橙的降解作用 | 第185-194页 |
| 攻读学位期间完成的论文与专利情况 | 第194-195页 |
| 致谢 | 第195-196页 |
