| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-41页 |
| ·ZnO的结构与性质 | 第12-23页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第14页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第14-16页 |
| ·ZnO的电学性质及掺杂 | 第16-19页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第19-23页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第23-27页 |
| ·气敏器件 | 第23-24页 |
| ·透明导电薄膜 | 第24页 |
| ·薄膜晶体管 | 第24页 |
| ·发光器件 | 第24-25页 |
| ·紫外探测器 | 第25-27页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第27-32页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第27-28页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第28页 |
| ·化学气相淀积(CVD) | 第28-29页 |
| ·真空溅射技术(Sputtering) | 第29-32页 |
| ·本论文主要用到的表征方法 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第32-33页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第33-34页 |
| ·霍尔效应测试(Hall effect Measurements) | 第34页 |
| ·本论文的主要内容 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-41页 |
| 第二章 ZnO薄膜的Ag掺杂 | 第41-52页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·样品的制备和表征 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-50页 |
| ·Ag掺杂与未掺杂ZnO薄膜的X射线衍射分析 | 第42-43页 |
| ·Ag掺杂ZnO薄膜的形貌 | 第43页 |
| ·Ag掺杂ZnO薄膜的成分分析 | 第43-45页 |
| ·Ag掺杂ZnO薄膜的电学性质 | 第45-47页 |
| ·Ag掺杂ZnO薄膜的光致发光谱分析 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第三章 ZnO薄膜的Ag、S双掺杂 | 第52-62页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·样品的制备和表征 | 第53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-60页 |
| ·样品的X射线衍射分析 | 第53-54页 |
| ·样品的表面形貌分析 | 第54-55页 |
| ·样品的XPS分析 | 第55-56页 |
| ·Ag-S双掺杂ZnO薄膜的电学性质 | 第56-57页 |
| ·样品的低温光致发光谱分析 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第四章 ZnO的Zn掺杂研究 | 第62-76页 |
| ·引言 | 第62-63页 |
| ·样品的制备和表征 | 第63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-73页 |
| ·高压下Zn扩散处理对ZnO单晶紫外及可见发光的影响 | 第63-68页 |
| ·低压下Zn扩散处理对ZnO单晶紫外及可见发光的影响 | 第68-70页 |
| ·Zn扩散对ZnO低温发光的影响 | 第70-72页 |
| ·Zn扩散对ZnO单晶的电学性质的影响 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第五章 高温热处理对ZnO的光电性质影响 | 第76-93页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·样品的制备和表征 | 第77-78页 |
| ·结果与讨论 | 第78-90页 |
| ·不同热处理气氛对ZnO性质的影响 | 第78-85页 |
| ·ZnO粉末覆盖处理的影响 | 第85-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-93页 |
| 第六章 CVD制备ZnO薄膜及AZO透明导电膜 | 第93-108页 |
| ·引言 | 第93-94页 |
| ·样品的制备和表征 | 第94-95页 |
| ·结果与讨论 | 第95-105页 |
| ·CVD制备的ZnO薄膜结构与性质 | 第95-98页 |
| ·退火温度对AZO透明导电膜的影响 | 第98-102页 |
| ·掺杂浓度对AZO透明导电膜的影响 | 第102-105页 |
| ·本章小结 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 第七章 总结与展望 | 第108-111页 |
| ·总结 | 第108-109页 |
| ·展望 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文目录 | 第112-114页 |
