| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·金刚石的结构 | 第13-14页 |
| ·金刚石的性质 | 第14-17页 |
| ·金刚石的力学性质 | 第14页 |
| ·金刚石的热学性质 | 第14-15页 |
| ·金刚石的光学性质 | 第15页 |
| ·金刚石的电学性质 | 第15-16页 |
| ·金刚石的化学性质 | 第16页 |
| ·金刚石的声学性质 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜制备方法简介 | 第17-19页 |
| ·热丝化学气相沉积法（HF-CVD） | 第17-18页 |
| ·直流等离子体喷射化学气相沉积法(DC-PJCVD) | 第18页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积法(MW-PCVD) | 第18-19页 |
| ·直流辉光等离子体化学气相沉积法(DC-PCVD) | 第19页 |
| ·金刚石膜的生长机理 | 第19-22页 |
| ·石墨与金刚石的相图 | 第19-20页 |
| ·原子氢和碳氢基团的分布与作用 | 第20-22页 |
| ·CVD 金刚石的发展史与现状 | 第22-25页 |
| ·掺杂金刚石膜的研究 | 第22-24页 |
| ·大颗粒单晶金刚石的研究 | 第24页 |
| ·金刚石膜的应用研究 | 第24-25页 |
| ·论文的选题和主要内容 | 第25-27页 |
| 第2章 金刚石膜的制备与表征 | 第27-38页 |
| ·直流辉光等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)方法简介 | 第27-29页 |
| ·实验设备简介 | 第27-28页 |
| ·基底 | 第28-29页 |
| ·金刚石膜的沉积工艺 | 第29页 |
| ·金刚石膜的生长速率研究 | 第29-32页 |
| ·甲烷流量对金刚石膜生长速率的影响 | 第30页 |
| ·气压对金刚石膜生长速率的影响 | 第30-31页 |
| ·基底温度对金刚石膜生长速率的影响 | 第31-32页 |
| ·金刚石膜生长特性研究 | 第32-36页 |
| ·CH_4流量对金刚石膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·不同 CH_4流量下金刚石膜 XRD 分析 | 第33-35页 |
| ·不同 CH_4流量下金刚石膜 RAMAN分析 | 第35-36页 |
| ·金刚石膜的截面研究 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第3章 硼掺杂金刚石膜的制备与生长特性研究 | 第38-68页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的制备 | 第38-40页 |
| ·硼源的选择和掺硼方法 | 第38-39页 |
| ·实验条件 | 第39-40页 |
| ·BDD 膜的生长特性研究 | 第40-65页 |
| ·生长时间对 BDD 膜生长特性的影响 | 第40-43页 |
| ·硼酸三甲酯流量对金刚石膜生长特性的影响 | 第43-55页 |
| ·甲烷流量对 BDD 膜生长特性的影响 | 第55-59页 |
| ·气压对 BDD 膜生长特性的影响 | 第59-62页 |
| ·温度对 BDD 膜生长特性的影响 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-68页 |
| 第4章 全文总结与展望 | 第68-73页 |
| ·全文总结 | 第68-71页 |
| ·展望 | 第71-73页 |
| ·BDD 膜在电化学领域的应用 | 第71-72页 |
| ·BDD 膜在机械加工领域的应用 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
