| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·氮化硼的结构、分类和性质 | 第8-14页 |
| ·立方氮化硼(cBN) | 第8-10页 |
| ·正交氮化硼(oBN) | 第10-12页 |
| ·其他异构体(hBN、wBN、rBN) | 第12-14页 |
| ·氮化硼膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·物理气相沉积（PVD） | 第14-16页 |
| ·化学气相沉积（CVD） | 第16-18页 |
| ·BN 膜的表征手段 | 第18-21页 |
| ·傅立叶变换红外光谱（FTIR） | 第18-20页 |
| ·拉曼光谱(Raman Spectroscopy) | 第20页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第20-21页 |
| ·其他分析测试技术 | 第21页 |
| ·各种衬底上生长BN 膜 | 第21-22页 |
| ·氮化硼膜制备中存在的问题 | 第22页 |
| ·选题背景和研究内容 | 第22-24页 |
| ·选题背景 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 射频磁控溅射沉积系统及氮化硼膜的制备过程 | 第24-34页 |
| ·溅射原理 | 第24-27页 |
| ·辉光放电 | 第24-25页 |
| ·溅射过程 | 第25页 |
| ·溅射粒子的迁移过程 | 第25-26页 |
| ·溅射的特点 | 第26页 |
| ·溅射的理论 | 第26-27页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第27-30页 |
| ·射频溅射 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射 | 第29-30页 |
| ·氮化硼膜沉积系统 | 第30-31页 |
| ·氮化硼膜制备过程 | 第31-34页 |
| ·衬底处理 | 第31-32页 |
| ·实验参数 | 第32-34页 |
| 第三章 石墨衬底上制备氮化硼膜的特点及实验参数对膜生长的影响 | 第34-49页 |
| ·衬底材料对制备BN 膜的影响 | 第34-38页 |
| ·射频功率对制备BN 膜的影响 | 第38-41页 |
| ·沉积时间对制备BN 膜的影响 | 第41-45页 |
| ·衬底偏压对制备BN 膜的影响 | 第45-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 石墨衬底上沉积立方氮化硼厚膜及其性质研究 | 第49-61页 |
| ·cBN 膜的制备 | 第49-50页 |
| ·实验结果与分析 | 第50-54页 |
| ·cBN 膜的形貌特征 | 第50-51页 |
| ·cBN 膜的红外光谱（FTIR）分析 | 第51-52页 |
| ·cBN 膜的X 射线光电子光谱（XPS）分析 | 第52-54页 |
| ·cBN 膜的光学特性分析 | 第54-56页 |
| ·cBN 膜的场发射特性分析 | 第56-58页 |
| ·cBN 膜的稳定性分析 | 第58-61页 |
| 第五章 自支撑半透明正交氮化硼膜的制备及其性质研究 | 第61-77页 |
| ·oBN 膜的制备 | 第61页 |
| ·oBN 膜的形貌特征 | 第61-63页 |
| ·oBN 膜的 XRD 光谱分析 | 第63-65页 |
| ·oBN 膜的红外光谱（FTIR）分析 | 第65页 |
| ·oBN 膜的 Raman 光谱分析 | 第65-66页 |
| ·oBN 膜的 X 射线光电子光谱（XPS）分析 | 第66-68页 |
| ·oBN 膜的紫外可见光谱分析 | 第68-71页 |
| ·oBN 膜的光致发光光谱分析 | 第71-73页 |
| ·oBN 膜的硬度测量 | 第73-76页 |
| 本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 结论和展望 | 第77-81页 |
| ·本文结论 | 第77-78页 |
| ·工作展望 | 第78-81页 |
| 参考文献 | 第81-92页 |
| 攻读博士学位期间发表论文 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 摘要 | 第94-96页 |
| Abstract | 第96-97页 |
