| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第15-47页 |
| 1.1 能源现状 | 第15-17页 |
| 1.2 合成气制低碳醇概述 | 第17-18页 |
| 1.3 合成气制低碳醇催化剂 | 第18-23页 |
| 1.3.1 贵金属催化剂 | 第18-20页 |
| 1.3.2 改性F-T催化剂 | 第20-21页 |
| 1.3.3 改性CH3OH催化剂 | 第21-22页 |
| 1.3.4 Mo基催化剂 | 第22-23页 |
| 1.4 钼基催化剂概述 | 第23-29页 |
| 1.4.1 硫化钼催化剂 | 第23-25页 |
| 1.4.2 碳化钼催化剂 | 第25-26页 |
| 1.4.3 氧化钼催化剂 | 第26-27页 |
| 1.4.4 磷化钼催化剂 | 第27-28页 |
| 1.4.5 氮化钼催化剂 | 第28-29页 |
| 1.5 等离子体概述 | 第29-33页 |
| 1.5.1 等离子体概念 | 第29-30页 |
| 1.5.2 低温冷等离子体 | 第30-31页 |
| 1.5.3 低温热等离子体 | 第31-33页 |
| 1.6 本论文的选题意义和研究内容 | 第33-35页 |
| 1.6.1 选题依据和研究意义 | 第33-34页 |
| 1.6.2 研究目标与内容 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-47页 |
| 第二章 实验部分 | 第47-55页 |
| 2.1 实验试剂、气体及仪器设备 | 第47-48页 |
| 2.2 催化剂活性评价 | 第48-51页 |
| 2.2.1 合成气制低碳醇活性评价装置 | 第48-50页 |
| 2.2.2 评价实验流程 | 第50-51页 |
| 2.2.3 催化活性的计算方法 | 第51页 |
| 2.3 射频热等离子体设备 | 第51-53页 |
| 2.4 催化剂的表征 | 第53-55页 |
| 2.4.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第53页 |
| 2.4.2 透射电子显微镜(TEM) | 第53页 |
| 2.4.3 氮气吸脱附(BET)分析 | 第53页 |
| 2.4.4 H_2 程序升温还原(H2-TPR)测试 | 第53页 |
| 2.4.5 一氧化碳程序升温脱附(CO-TPD)测试 | 第53页 |
| 2.4.6 拉曼(Raman)分析 | 第53-54页 |
| 2.4.7 X-射线光电子能谱(XPS)测试 | 第54页 |
| 2.4.8 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)测试 | 第54-55页 |
| 第三章 热等离子体法制备MoO_2 基催化剂及其合成气制低碳醇催化性能研究 | 第55-92页 |
| 3.1 引言 | 第55-56页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第56-57页 |
| 3.2.1 MoO_2 催化剂的合成 | 第56页 |
| 3.2.2 添加不同含量钴助剂的氧化钼基催化剂的合成 | 第56-57页 |
| 3.3 不同方法制备的MoO_2 催化剂的合成气制醇性能研究 | 第57-74页 |
| 3.3.1 TEM表征 | 第57-59页 |
| 3.3.2 XRD表征 | 第59页 |
| 3.3.3 BET分析 | 第59-60页 |
| 3.3.4 Raman分析 | 第60-61页 |
| 3.3.5 H_2-TPR分析 | 第61-62页 |
| 3.3.6 CO-TPD分析 | 第62-63页 |
| 3.3.7 XPS分析 | 第63-65页 |
| 3.3.8 催化剂的合成气制低碳醇性能评价 | 第65-69页 |
| 3.3.9 反应后催化剂的表征 | 第69-74页 |
| 3.4 不同含量钴助剂对等离子体法MoO_2 基催化剂的催化性能影响 | 第74-85页 |
| 3.4.1 XRD分析 | 第74-75页 |
| 3.4.2 TEM分析 | 第75-78页 |
| 3.4.3 BET分析 | 第78页 |
| 3.4.4 ICP-AES分析 | 第78页 |
| 3.4.5 CO-TPD分析 | 第78-79页 |
| 3.4.6 XPS分析 | 第79-81页 |
| 3.4.7 催化剂的合成气制低碳醇性能评价 | 第81-85页 |
| 3.5 本章小结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-92页 |
| 第四章 热等离子体法制备MoO_2-MoC双活性相催化剂及其合成气制低碳醇催化性能研究 | 第92-116页 |
| 4.1 引言 | 第92-93页 |
| 4.2 催化剂的制备 | 第93-94页 |
| 4.2.1 MoO_2-MoC催化剂的合成 | 第93-94页 |
| 4.2.2 不同原料比的MoO_2-MoC-Pla催化剂的合成 | 第94页 |
| 4.3 等离子体法制备MoO_2-MoC催化剂及其合成气制低碳醇性能研究 | 第94-102页 |
| 4.3.1 XRD表征 | 第94-95页 |
| 4.3.2 TEM表征 | 第95-96页 |
| 4.3.3 BET分析 | 第96-97页 |
| 4.3.4 Raman分析 | 第97页 |
| 4.3.5 CO-TPD分析 | 第97-98页 |
| 4.3.6 XPS分析 | 第98-100页 |
| 4.3.7 催化剂的合成气制低碳醇性能评价 | 第100-102页 |
| 4.4 不同原料比的MoO_2-MoC-Pla催化剂的合成气制低碳醇性能研究 | 第102-112页 |
| 4.4.1 XRD表征 | 第102-103页 |
| 4.4.2 TEM表征 | 第103-105页 |
| 4.4.3 BET分析 | 第105-106页 |
| 4.4.4 Raman分析 | 第106页 |
| 4.4.5 CO-TPD分析 | 第106-107页 |
| 4.4.6 XPS分析 | 第107-109页 |
| 4.4.7 催化剂的合成气制低碳醇性能评价 | 第109-112页 |
| 4.5 本章小结 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-116页 |
| 第五章 热等离子体法制备新型MoSx催化剂及其合成气制低碳醇催化性能研究 | 第116-130页 |
| 5.1 引言 | 第116-117页 |
| 5.2 催化剂的制备 | 第117-118页 |
| 5.2.1 四硫代钼酸铵的制备 | 第117页 |
| 5.2.2 MoS_x催化剂的等离子体法合成 | 第117-118页 |
| 5.3 等离子体法制备硫化钼催化剂及其合成气制低碳醇性能研究 | 第118-125页 |
| 5.3.1 XRD表征 | 第118-119页 |
| 5.3.2 TEM表征 | 第119-120页 |
| 5.3.3 Raman分析 | 第120-121页 |
| 5.3.4 CO-TPD分析 | 第121-122页 |
| 5.3.5 XPS分析 | 第122-123页 |
| 5.3.6 催化剂的合成气制低碳醇性能评价 | 第123-125页 |
| 5.4 小结 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-130页 |
| 第六章 总结与展望 | 第130-133页 |
| 6.1 全文总结 | 第130-132页 |
| 6.2 展望 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
| 攻读博士学位期间发表的成果 | 第134页 |
