| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第10-18页 |
| 1.1 化学修饰电极 | 第10-13页 |
| 1.1.1 化学修饰电极的概念 | 第10页 |
| 1.1.2 修饰方法 | 第10-12页 |
| 1.1.3 电化学修饰电极的应用 | 第12-13页 |
| 1.2 过渡金属氢氧化物修饰电极 | 第13页 |
| 1.2.1 过渡金属氢氧化物在电化学中的应用 | 第13页 |
| 1.2.2 钴、镍氢氧化物修饰电极在农药残留检测中的应用 | 第13页 |
| 1.3 农药的检测方法 | 第13-17页 |
| 1.3.1 色谱法 | 第13-15页 |
| 1.3.2 光谱法 | 第15-16页 |
| 1.3.3 免疫分析法 | 第16页 |
| 1.3.4 酶抑制技术 | 第16-17页 |
| 1.4 本论文的研究意义及主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 氢氧化镍修饰碳糊电极电膜萃取和微分脉冲伏安法测定敌草隆 | 第18-31页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 实验部分 | 第18-19页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第18页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第18-19页 |
| 2.2.3 实验方法 | 第19页 |
| 2.3 计算原理及分子模型 | 第19-20页 |
| 2.3.1 热力学参数的定义 | 第19页 |
| 2.3.2 前线轨道参数的定义 | 第19-20页 |
| 2.3.3 量子化学计算方法与分子模型 | 第20页 |
| 2.4 实验结果与讨论 | 第20-30页 |
| 2.4.1 电极的XRD表征 | 第20-22页 |
| 2.4.2 敌草隆的循环伏安行为 | 第22-23页 |
| 2.4.3 电极的最佳修饰量 | 第23页 |
| 2.4.4 检测的最佳条件 | 第23-26页 |
| 2.4.5 浓度的实际检测 | 第26-28页 |
| 2.4.6 理论计算结果 | 第28-30页 |
| 2.5 小结 | 第30-31页 |
| 第三章 氢氧化钴原位修饰碳糊电极固-液微萃取及电化学检测辛硫磷 | 第31-45页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-32页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第31-32页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第32页 |
| 3.2.3 实验方法 | 第32页 |
| 3.3 分子模型及计算细节 | 第32-33页 |
| 3.3.1 分子模型 | 第32-33页 |
| 3.3.2 分子计算细节 | 第33页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第33-44页 |
| 3.4.1 电极的XRD表征 | 第33-34页 |
| 3.4.2 辛硫磷的循环伏安行为 | 第34-35页 |
| 3.4.3 电极的最佳修饰量 | 第35-36页 |
| 3.4.4 检测的最佳条件 | 第36-38页 |
| 3.4.5 浓度的实际检测 | 第38-40页 |
| 3.4.6 理论计算及交流阻抗实验结果 | 第40-44页 |
| 3.5 小结 | 第44-45页 |
| 第四章 氢氧化钴修饰碳糊电极检测百菌清及其量化计算和交流阻抗研究 | 第45-56页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验部分 | 第45-46页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第45页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第45页 |
| 4.2.3 实验方法 | 第45-46页 |
| 4.3 分子模型及计算细节 | 第46-47页 |
| 4.3.1 分子模型 | 第46-47页 |
| 4.3.2 分子计算细节 | 第47页 |
| 4.4 实验结果与讨论 | 第47-55页 |
| 4.4.1 百菌清的循环伏安行为 | 第47页 |
| 4.4.2 电极的最佳修饰量 | 第47-48页 |
| 4.4.3 检测的最佳条件 | 第48-50页 |
| 4.4.4 浓度的实际检测 | 第50-51页 |
| 4.4.5 理论计算及交流阻抗实验结果 | 第51-55页 |
| 4.5 小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简历 | 第67页 |
