超高温薄膜应变传感器关键结构制备
| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 1 绪论 | 第7-18页 |
| 1.1 高温薄膜应变计概述 | 第7-8页 |
| 1.2 绝缘层研究进展 | 第8-11页 |
| 1.3 敏感层研究进展 | 第11-15页 |
| 1.4 氮化钽概述 | 第15-16页 |
| 1.5 研究内容 | 第16-18页 |
| 2 氧化铝溶胶制备及绝缘薄膜性能表征 | 第18-26页 |
| 2.1 实验材料和实验设备 | 第18-20页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第18页 |
| 2.1.2 电射流沉积实验装置 | 第18-19页 |
| 2.1.3 其他实验装置 | 第19-20页 |
| 2.2 氧化铝溶胶及混合液制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 氧化铝溶胶制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 氧化铝悬浮液制备 | 第21页 |
| 2.3 氧化铝溶胶及混合液性质测试 | 第21-23页 |
| 2.4 绝缘层的绝缘电阻测试 | 第23-24页 |
| 2.5 绝缘薄膜耐压-温度测试 | 第24-25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 绝缘薄膜制备与测试 | 第26-45页 |
| 3.1 电射流沉积工艺流程 | 第26页 |
| 3.2 溶胶性质对薄膜开裂的影响 | 第26-27页 |
| 3.3 电射流参数对薄膜的影响 | 第27-32页 |
| 3.3.1 沉积高度对薄膜的影响 | 第28-30页 |
| 3.3.2 液体流量对薄膜的影响 | 第30-32页 |
| 3.4 氧化铝薄膜表面形貌及抛光处理 | 第32-36页 |
| 3.4.1 薄膜表面形貌 | 第32页 |
| 3.4.2 氧化铝薄膜抛光处理 | 第32-36页 |
| 3.5 氧化铝物相结构测试 | 第36-37页 |
| 3.6 氧化铝薄膜电性能测试 | 第37-39页 |
| 3.6.1 氧化铝薄膜绝缘电阻测试 | 第37-38页 |
| 3.6.2 薄膜耐压-温度特性 | 第38-39页 |
| 3.7 复合绝缘薄膜设计 | 第39-41页 |
| 3.8 复合绝缘薄膜制备及绝缘电阻测试 | 第41-44页 |
| 3.9 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 超高温TaN敏感层的磁控溅射制备工艺 | 第45-54页 |
| 4.1 磁控溅射制备氮化钽敏感层 | 第45-46页 |
| 4.2 氮分压对氮化钽的影响 | 第46-50页 |
| 4.2.1 氮分压对溅射速率的影响 | 第46页 |
| 4.2.2 氮分压对薄膜表面粗糙度的影响 | 第46-48页 |
| 4.2.3 氮分压对薄膜物相结构的影响 | 第48页 |
| 4.2.4 氮分压对薄膜电性能的影响 | 第48-50页 |
| 4.3 热处理对氮化钽薄膜电阻率的影响 | 第50-51页 |
| 4.4 氮化钽电阻温度系数测试 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
