摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-29页 |
1.1 光催化研究背景 | 第9页 |
1.2 光催化技术概况 | 第9-15页 |
1.2.1 光催化技术基本概念 | 第10页 |
1.2.2 光催化技术基本原理 | 第10-11页 |
1.2.3 光催化活性影响因素 | 第11-15页 |
1.2.3.1 半导体能带位置 | 第12页 |
1.2.3.2 粒径、比表面积及结构形貌 | 第12-13页 |
1.2.3.3 表面基团 | 第13-15页 |
1.2.3.4 晶面结构 | 第15页 |
1.3 g-C_3N_4光催化材料研究简介 | 第15-27页 |
1.3.1 g-C_3N_4光催化材料研究背景 | 第15-16页 |
1.3.2 g-C_3N_4光催化材料的性质及制备 | 第16-19页 |
1.3.3 g-C_3N_4光催化活性的影响因素及改性措施 | 第19-22页 |
1.3.4 g-C_3N_4在光催化领域的应用 | 第22-27页 |
1.3.4.1 光催化分解水制氢 | 第22-23页 |
1.3.4.2 光催化降解有机污染物 | 第23-24页 |
1.3.4.3 光催化有机合成 | 第24-25页 |
1.3.4.4 光催化CO2还原 | 第25-27页 |
1.3.4.5 光催化抗菌消毒 | 第27页 |
1.4 本论文的研究意义及内容 | 第27-29页 |
第2章 水热处理对g-C_3N_4光催化材料表面结构及制氢性能的影响 | 第29-46页 |
2.1 引言 | 第29-30页 |
2.2 实验部分 | 第30-32页 |
2.2.1 g-C_3N_4光催化材料的合成 | 第30页 |
2.2.2 g-C_3N_4光催化材料的水热处理 | 第30-31页 |
2.2.3 样品表征 | 第31-32页 |
2.2.4 光催化制氢性能测试 | 第32页 |
2.3 结果与讨论 | 第32-45页 |
2.3.1 水热处理对g-C_3N_4光催化材料微结构的影响 | 第32-40页 |
2.3.2 水热处理对g-C_3N_4光催化材料制氢性能的影响 | 第40-42页 |
2.3.3 光催化制氢性能增强的机理分析 | 第42-45页 |
2.4 本章小结 | 第45-46页 |
第3章 g-C_3N_4/CdS光催化材料的原位自转变合成及其增强的产氢性能 | 第46-60页 |
3.1 引言 | 第46-47页 |
3.2 实验部分 | 第47-50页 |
3.2.1 CdS光催化材料的合成 | 第47-48页 |
3.2.2 g-C_3N_4/CdS光催化材料的合成 | 第48页 |
3.2.3 样品表征 | 第48-49页 |
3.2.4 光催化制氢性能测试 | 第49-50页 |
3.3 结果与讨论 | 第50-59页 |
3.3.1 g-C_3N_4/CdS光催化材料的合成思路 | 第50页 |
3.3.2 g-C_3N_4/CdS光催化材料的形貌与微结构分析 | 第50-56页 |
3.3.3 g-C_3N_4/CdS光催化材料的制氢性能及机理分析 | 第56-59页 |
3.4 本章小结 | 第59-60页 |
第4章 结论 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-72页 |
附录:硕士期间已发表和待发表的研究论文 | 第72页 |