| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.3 磁电复合材料的磁电效应 | 第11-13页 |
| 1.3.1 压电效应 | 第11页 |
| 1.3.2 磁致伸缩效应 | 第11-12页 |
| 1.3.3 磁电效应 | 第12-13页 |
| 1.4 磁电层合结构研究 | 第13-15页 |
| 1.5 磁电复合薄膜研究 | 第15-16页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第16-17页 |
| 2 磁电式转速传感器结构设计与性能研究 | 第17-36页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 Comsol模型建立 | 第17-25页 |
| 2.2.1 材料参数推导 | 第17-23页 |
| 2.2.2 PDE方程推导 | 第23-25页 |
| 2.3 实验仪器与方案介绍 | 第25-29页 |
| 2.3.1 实验仪器介绍 | 第25-27页 |
| 2.3.2 实验方案介绍 | 第27-29页 |
| 2.4 磁电层合结构性能研究 | 第29-34页 |
| 2.4.1 Comsol分析 | 第29-32页 |
| 2.4.2 实验论证 | 第32-34页 |
| 2.5 磁电式转速传感器结构设计 | 第34-35页 |
| 2.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 3 Z型磁电效应装置结构设计与性能研究 | 第36-47页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 Z型磁电效应装置 | 第36-37页 |
| 3.3 Z型磁电效应装置模型 | 第37-44页 |
| 3.3.1 本构方程及边界条件 | 第37-40页 |
| 3.3.2 磁电系数数值计算 | 第40-44页 |
| 3.4 Z型磁电效应装置实验分析 | 第44-46页 |
| 3.4.1 Z型磁电效应装置试件制备 | 第44-45页 |
| 3.4.2 磁电系数实验结果 | 第45-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 PZT-NZFO磁电复合薄膜制备及性能研究 | 第47-64页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验原料与仪器 | 第47-49页 |
| 4.2.1 实验原料 | 第47页 |
| 4.2.2 实验仪器介绍 | 第47-49页 |
| 4.3 薄膜样品制备 | 第49-52页 |
| 4.3.1 0.5PZT-0.5NZFO复合靶材制备 | 第49-51页 |
| 4.3.2 薄膜基片处理 | 第51页 |
| 4.3.3 磁控溅射法制备薄膜样品 | 第51-52页 |
| 4.4 薄膜样品性能分析 | 第52-63页 |
| 4.4.1 溅射功率与时间对薄膜结构的影响 | 第52-54页 |
| 4.4.2 溅射氩氧比对薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| 4.4.3 基片温度对薄膜结构的影响 | 第56-58页 |
| 4.4.4 PZT-NZFO薄膜结构与物相分析 | 第58-60页 |
| 4.4.5 PZT-NZFO薄膜VSM测试 | 第60页 |
| 4.4.6 PZT-NZFO薄膜介电性能测试 | 第60-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 5 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 在学研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |