| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 前言 | 第15-16页 |
| 1.2 石墨烯结构性质 | 第16-19页 |
| 1.2.1 石墨烯结构 | 第16-17页 |
| 1.2.2 石墨烯性质 | 第17-19页 |
| 1.3 石墨烯制备方法国内外研究现状 | 第19-25页 |
| 1.3.1 常用制备方法比较 | 第19-20页 |
| 1.3.2 脉冲激光制备石墨烯薄膜 | 第20-21页 |
| 1.3.3 双光束干涉还原氧化石墨 | 第21页 |
| 1.3.4 激光打开碳纳米管 | 第21-22页 |
| 1.3.5 激光光热脱氧化 | 第22-23页 |
| 1.3.6 激光化学气相(LCVD)沉积石墨烯 | 第23-25页 |
| 1.4 石墨烯表征方法概述 | 第25-27页 |
| 1.4.1 光学显微镜(OM) | 第25页 |
| 1.4.2 扫描电子显微镜(Scanning electron microscope, SEM) | 第25-26页 |
| 1.4.3 原子力显微镜(AFM) | 第26页 |
| 1.4.4 拉曼光谱分析法(Raman) | 第26-27页 |
| 1.5 本文研究内容与框架 | 第27-29页 |
| 第二章 LCVD法石墨烯生长原理及系统软硬件设计 | 第29-43页 |
| 2.1 激光化学气相沉积石墨烯生长方法介绍 | 第29-30页 |
| 2.2 制备装置设计 | 第30-36页 |
| 2.2.1 LCVD与CVD共有管路设计 | 第30-32页 |
| 2.2.2 生长路径控制单元设计 | 第32-33页 |
| 2.2.3 流量控制单元设计 | 第33-34页 |
| 2.2.4 腔压控制单元设计 | 第34页 |
| 2.2.5 光斑监测单元装置设计 | 第34-36页 |
| 2.3 控制软件设计 | 第36-42页 |
| 2.3.1 设计原则 | 第36-37页 |
| 2.3.2 编写环境 | 第37-38页 |
| 2.3.3 软件界面概述 | 第38-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 激光光束发散角测量及整形 | 第43-59页 |
| 3.1 基于两点法的激光束散角测量 | 第43-46页 |
| 3.1.1 传统激光束散角测量方法 | 第43-44页 |
| 3.1.2 两点法测量原理 | 第44-46页 |
| 3.2 测量实验及分析 | 第46-51页 |
| 3.2.1 测量系统设计 | 第46-48页 |
| 3.2.2 实验 | 第48页 |
| 3.2.3 结果分析 | 第48-51页 |
| 3.3 光束整形方案 | 第51-55页 |
| 3.4 光机结构设计 | 第55-56页 |
| 3.5 结果分析 | 第56-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 基底光斑监测软件算法设计 | 第59-69页 |
| 4.1 光斑测量方式概述 | 第59页 |
| 4.2 光斑监测算法设计 | 第59-65页 |
| 4.2.1 有效光斑界定 | 第60-61页 |
| 4.2.2 BERNSEN二值化 | 第61页 |
| 4.2.3 形态学处理 | 第61-62页 |
| 4.2.4 最大连通域处理 | 第62-63页 |
| 4.2.5 圆拟合 | 第63-65页 |
| 4.3 像素当量标定 | 第65-66页 |
| 4.4 算法结果分析 | 第66-68页 |
| 4.5 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 LCVD法石墨烯制备实验 | 第69-79页 |
| 5.1 制备原理 | 第69页 |
| 5.2 制备工艺 | 第69-74页 |
| 5.2.1 基底选择及预处理 | 第70-72页 |
| 5.2.2 真空度调试 | 第72-73页 |
| 5.2.3 流量调试 | 第73页 |
| 5.2.4 实验过程 | 第73-74页 |
| 5.3 表征及结果分析 | 第74-77页 |
| 5.3.1 石墨烯层数的拉曼光谱界定 | 第74-75页 |
| 5.3.2 表征结果及分析 | 第75-77页 |
| 5.4 本章小结 | 第77-79页 |
| 第六章 总结与展望 | 第79-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93页 |