| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 引言 | 第11-18页 |
| 1.1 能源危机及太阳能的应用前景 | 第11-13页 |
| 1.2 太阳能电池发展概况 | 第13-14页 |
| 1.3 太阳能电池的应用 | 第14-15页 |
| 1.4 光伏行业的迅猛发展与现状 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文主要研究的内容 | 第16-18页 |
| 第2章 晶硅太阳能电池的制作工艺及工作原理 | 第18-28页 |
| 2.1 晶硅太阳电池的基本结构及原理 | 第18-20页 |
| 2.1.1 晶硅太阳电池的基本结构 | 第18页 |
| 2.1.2 晶硅太阳电池的基本工作原理 | 第18-19页 |
| 2.1.3 太阳能电池的基本参数 | 第19-20页 |
| 2.2 晶硅太阳电池的制作工艺 | 第20-28页 |
| 2.2.1 清洗制绒 | 第20-22页 |
| 2.2.2 扩散制结 | 第22-23页 |
| 2.2.3 刻蚀 | 第23页 |
| 2.2.4 去磷硅玻璃 | 第23-24页 |
| 2.2.5 减反射钝化膜 | 第24-25页 |
| 2.2.6 丝网印刷 | 第25-26页 |
| 2.2.7 烧结 | 第26-28页 |
| 第3章 氮化硅薄膜介绍 | 第28-39页 |
| 3.1 SiNx:H钝化技术 | 第28-30页 |
| 3.1.1 半导体中载流子的复合 | 第28-29页 |
| 3.1.2 氢钝化 | 第29-30页 |
| 3.2 减反射原理 | 第30-31页 |
| 3.3 CVD制膜技术 | 第31-35页 |
| 3.3.1 CVD技术种类 | 第31-34页 |
| 3.3.2 不同PECVD法特点 | 第34-35页 |
| 3.4 PECVD机理及薄膜性质 | 第35-36页 |
| 3.4.1 PECVD机理 | 第35页 |
| 3.4.2 氮化硅薄膜性质 | 第35-36页 |
| 3.5 氮化硅薄膜的研究成果 | 第36-39页 |
| 第4章 双层氮化硅膜结构的研究 | 第39-54页 |
| 4.1 氮化硅薄膜的制备 | 第39-42页 |
| 4.2 折射率对效率的影响实验 | 第42-49页 |
| 4.2.1 单层膜 | 第42-46页 |
| 4.2.2 双层膜n=2.1(内膜折射率n1>外膜折射率n2) | 第46-49页 |
| 4.3 不同内膜厚度对电池电性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.4 实验数据分析 | 第50-54页 |
| 第5章 结论与展望 | 第54-57页 |
| 5.1 结论 | 第54-55页 |
| 5.2 展望 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |