碳化硅和蒙脱石对水溶液中U(Ⅵ)的吸附性能研究
致谢 | 第7-8页 |
摘要 | 第8-9页 |
abstract | 第9-10页 |
第一章 绪论 | 第16-27页 |
1.1 选题依据和研究意义 | 第16-19页 |
1.1.1 铀的基本性质 | 第16-18页 |
1.1.2 我国含铀废水来源及其危害 | 第18-19页 |
1.2 含铀废水处理方法及其特点 | 第19-21页 |
1.2.1 化学沉淀法 | 第19-20页 |
1.2.2 离子交换法 | 第20页 |
1.2.3 吸附法 | 第20-21页 |
1.2.4 膜处理法 | 第21页 |
1.3 研究现状 | 第21-25页 |
1.3.1 对水溶液中U(Ⅵ)去除研究 | 第21-22页 |
1.3.2 对碳化硅的研究 | 第22-23页 |
1.3.3 对蒙脱石的研究 | 第23-24页 |
1.3.4 研究意义 | 第24-25页 |
1.4 研究内容、技术路线与创新点 | 第25-27页 |
1.4.1 研究内容 | 第25页 |
1.4.2 技术路线 | 第25-26页 |
1.4.3 研究创新点 | 第26-27页 |
第二章 实验方法 | 第27-29页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第27-28页 |
2.1.1 实验试剂 | 第27页 |
2.1.2 实验仪器与测试方法 | 第27-28页 |
2.2 实验样品制备 | 第28页 |
2.2.1 铀酰标准溶液配制 | 第28页 |
2.2.2 蒙脱石吸附剂样品制备 | 第28页 |
2.2.3 碳化硅吸附剂样品制备 | 第28页 |
2.3 吸附实验 | 第28-29页 |
第三章 碳化硅去吸附水溶液中的U(Ⅵ) | 第29-41页 |
3.1 碳化硅的表征 | 第29-32页 |
3.1.1 碳化硅的XRD图 | 第29-30页 |
3.1.2 碳化硅扫面电镜图 | 第30-31页 |
3.1.3 碳化硅傅里叶红外光谱 | 第31页 |
3.1.4 碳化硅的比表面积测定 | 第31-32页 |
3.2 碳化硅吸附铀的影响因素 | 第32-39页 |
3.2.1 接触时间的影响 | 第32-33页 |
3.2.2 pH和离子强度的影响 | 第33-35页 |
3.2.3 固液比 | 第35-36页 |
3.2.4 吸附热力学 | 第36-39页 |
3.2.5 重复利用率 | 第39页 |
3.3 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 蒙脱石吸附水溶液中的U(Ⅵ) | 第41-57页 |
4.1 蒙脱石的表征 | 第41-43页 |
4.1.1 蒙脱石X射线衍射图 | 第41-42页 |
4.1.2 蒙脱石扫面电镜 | 第42页 |
4.1.3 蒙脱石红外光谱 | 第42-43页 |
4.1.4 蒙脱石的比表面积测定 | 第43页 |
4.2 蒙脱石吸附铀的影响因素 | 第43-54页 |
4.2.1 吸附动力学 | 第43-45页 |
4.2.2 pH和离子强度的影响 | 第45-46页 |
4.2.3 固液比 | 第46-47页 |
4.2.4 吸附热力学 | 第47-50页 |
4.2.5 腐植酸的影响 | 第50-52页 |
4.2.6 重复利用率 | 第52页 |
4.2.7 XPS | 第52-54页 |
4.3 本章小结 | 第54-57页 |
第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
5.1 结论 | 第57-58页 |
5.2 展望 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-66页 |
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第66-67页 |