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碳化硅和蒙脱石对水溶液中U(Ⅵ)的吸附性能研究

致谢第7-8页
摘要第8-9页
abstract第9-10页
第一章 绪论第16-27页
    1.1 选题依据和研究意义第16-19页
        1.1.1 铀的基本性质第16-18页
        1.1.2 我国含铀废水来源及其危害第18-19页
    1.2 含铀废水处理方法及其特点第19-21页
        1.2.1 化学沉淀法第19-20页
        1.2.2 离子交换法第20页
        1.2.3 吸附法第20-21页
        1.2.4 膜处理法第21页
    1.3 研究现状第21-25页
        1.3.1 对水溶液中U(Ⅵ)去除研究第21-22页
        1.3.2 对碳化硅的研究第22-23页
        1.3.3 对蒙脱石的研究第23-24页
        1.3.4 研究意义第24-25页
    1.4 研究内容、技术路线与创新点第25-27页
        1.4.1 研究内容第25页
        1.4.2 技术路线第25-26页
        1.4.3 研究创新点第26-27页
第二章 实验方法第27-29页
    2.1 实验试剂及仪器第27-28页
        2.1.1 实验试剂第27页
        2.1.2 实验仪器与测试方法第27-28页
    2.2 实验样品制备第28页
        2.2.1 铀酰标准溶液配制第28页
        2.2.2 蒙脱石吸附剂样品制备第28页
        2.2.3 碳化硅吸附剂样品制备第28页
    2.3 吸附实验第28-29页
第三章 碳化硅去吸附水溶液中的U(Ⅵ)第29-41页
    3.1 碳化硅的表征第29-32页
        3.1.1 碳化硅的XRD图第29-30页
        3.1.2 碳化硅扫面电镜图第30-31页
        3.1.3 碳化硅傅里叶红外光谱第31页
        3.1.4 碳化硅的比表面积测定第31-32页
    3.2 碳化硅吸附铀的影响因素第32-39页
        3.2.1 接触时间的影响第32-33页
        3.2.2 pH和离子强度的影响第33-35页
        3.2.3 固液比第35-36页
        3.2.4 吸附热力学第36-39页
        3.2.5 重复利用率第39页
    3.3 本章小结第39-41页
第四章 蒙脱石吸附水溶液中的U(Ⅵ)第41-57页
    4.1 蒙脱石的表征第41-43页
        4.1.1 蒙脱石X射线衍射图第41-42页
        4.1.2 蒙脱石扫面电镜第42页
        4.1.3 蒙脱石红外光谱第42-43页
        4.1.4 蒙脱石的比表面积测定第43页
    4.2 蒙脱石吸附铀的影响因素第43-54页
        4.2.1 吸附动力学第43-45页
        4.2.2 pH和离子强度的影响第45-46页
        4.2.3 固液比第46-47页
        4.2.4 吸附热力学第47-50页
        4.2.5 腐植酸的影响第50-52页
        4.2.6 重复利用率第52页
        4.2.7 XPS第52-54页
    4.3 本章小结第54-57页
第五章 总结与展望第57-59页
    5.1 结论第57-58页
    5.2 展望第58-59页
参考文献第59-66页
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况第66-67页

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