| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 有机硅工业发展概况 | 第12-13页 |
| 1.2 氟硅材料的研究进展 | 第13-16页 |
| 1.2.1 氟硅油材料 | 第13-14页 |
| 1.2.2 氟硅橡胶材料 | 第14-15页 |
| 1.2.3 氟硅树脂涂料 | 第15页 |
| 1.2.4 氟硅表面活性剂 | 第15-16页 |
| 1.3 氟硅单体的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3.1 直接缩合法 | 第16页 |
| 1.3.2 有机金属化合物法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 热缩合法 | 第17页 |
| 1.3.4 硅氢加成法 | 第17-18页 |
| 1.4 硅氢加成反应催化剂 | 第18-22页 |
| 1.4.1 均相催化剂 | 第18-20页 |
| 1.4.1.1 铂配合物催化剂 | 第18-19页 |
| 1.4.1.2 铑配合物催化剂 | 第19-20页 |
| 1.4.1.3 钌配合物催化剂 | 第20页 |
| 1.4.2 多相催化剂 | 第20-22页 |
| 1.4.2.1 无机物固载金属配合物催化剂 | 第20-21页 |
| 1.4.2.2 高分子金属络合催化剂 | 第21-22页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 铂系催化剂的硅氢加成反应 | 第23-48页 |
| 2.1 实验部分 | 第23-26页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验仪器和设备 | 第23-24页 |
| 2.1.2.1 FT-IR光谱 | 第23页 |
| 2.1.2.2 核磁共振 | 第23页 |
| 2.1.2.3 元素分析 | 第23-24页 |
| 2.1.2.4 X-射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
| 2.1.2.5 X-射线衍射分析(XRD) | 第24页 |
| 2.1.3 催化剂的制备 | 第24-25页 |
| 2.1.4 硅氢加成反应 | 第25页 |
| 2.1.5 产物的分离提纯与反应物转化率的计算 | 第25-26页 |
| 2.2 Pt/SiO_2催化剂催化全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应 | 第26-34页 |
| 2.2.1 产物结构的鉴定 | 第26页 |
| (1) 核磁图谱 | 第26页 |
| (2) 红外表征 | 第26页 |
| 2.2.2 催化剂的表征 | 第26-28页 |
| 2.2.3 结果与结论 | 第28-34页 |
| 2.2.3.1 不同催化剂对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第28-29页 |
| 2.2.3.2 反应温度对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第29-30页 |
| 2.2.3.3 反应时间对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第30-31页 |
| 2.2.3.4 催化剂用量对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第31-32页 |
| 2.2.3.5 二氧化硅固载PEG络合铂催化剂的重复利用情况 | 第32-34页 |
| 2.3 Pt/5A-分子筛催化剂催化全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应 | 第34-41页 |
| 2.3.1 产物结构的鉴定 | 第34页 |
| 2.3.2 催化剂的表征 | 第34-35页 |
| 2.3.3 结果与结论 | 第35-41页 |
| 2.3.3.1 不同催化剂对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第35-36页 |
| 2.3.3.2 反应温度对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第36-37页 |
| 2.3.3.3 反应时间对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第37-38页 |
| 2.3.3.4 催化剂用量对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第38-39页 |
| 2.3.3.5 5A-分子筛固载PEG络合铂催化剂的重复利用情况 | 第39-41页 |
| 2.4 Pt/TiO_2系催化剂催化全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应 | 第41-47页 |
| 2.4.1 产物结构的鉴定 | 第41页 |
| 2.4.2 催化剂的表征 | 第41-42页 |
| 2.4.3 结果与结论 | 第42-47页 |
| 2.4.3.1 反应温度对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第42-43页 |
| 2.4.3.2 反应时间对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第43-44页 |
| 2.4.3.3 催化剂用量对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第44-45页 |
| 2.4.3.4 二氧化钛固载铂催化剂的重复利用情况 | 第45-46页 |
| 2.4.3.5 不同催化剂及反应装置对全氟己基乙烯和三乙氧基硅烷硅氢加成反应影响 | 第46-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 氟硅材料疏水疏油性能的研究 | 第48-60页 |
| 3.1 实验部分 | 第48-50页 |
| 3.1.1 仪器与试剂 | 第48-49页 |
| 3.1.1.1 主要试剂 | 第48页 |
| 3.1.1.2 主要仪器 | 第48-49页 |
| 3.1.2 不同基质表面氟硅涂层的制备 | 第49-50页 |
| 3.1.2.1 基片的预处理 | 第49页 |
| 3.1.2.2 氟硅溶胶的制备 | 第49-50页 |
| 3.1.2.3 基片表面薄膜的制备 | 第50页 |
| 3.2 测试及表征方法 | 第50-51页 |
| 3.2.1 接触角测试 | 第50页 |
| 3.2.2 薄膜表面形貌的分析 | 第50-51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-59页 |
| 3.3.1 不同氟硅溶胶薄膜的疏水疏油性能 | 第51页 |
| 3.3.2 反应温度对薄膜疏水疏油性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.3 TEOS配比对薄膜疏水疏油性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.4 钢片表面活化方式对薄膜疏水疏油性能的影响 | 第53-54页 |
| 3.3.5 玻片表面处理方式对薄膜疏水疏油性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.3.6 湿润特性 | 第55-56页 |
| 3.3.7 薄膜表面形貌的分析 | 第56-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 总结 | 第60-62页 |
| 附图 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
