| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-26页 |
| ·立题背景 | 第9-11页 |
| ·冶金法 | 第11-18页 |
| ·冶金法发展历程 | 第11-13页 |
| ·冶金法制备高纯多晶硅工艺方法 | 第13-18页 |
| ·电子束熔炼 | 第18-24页 |
| ·电子束熔炼原理及电子束熔炼炉结构 | 第20-22页 |
| ·电子束熔炼在材料提纯领域的应用 | 第22-23页 |
| ·电子束熔炼在硅材料提纯领域的应用 | 第23-24页 |
| ·本文研究的主要目的及内容 | 第24-26页 |
| 2 硅中杂质及电子束熔炼除杂原理 | 第26-36页 |
| ·概述 | 第26页 |
| ·太阳能级硅杂质容许含量 | 第26-29页 |
| ·电子束熔炼除杂原理 | 第29-35页 |
| ·电子束熔炼过程动力学 | 第29-31页 |
| ·杂质元素挥发系数 | 第31-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 3 多晶硅铸锭中杂质分布规律及其挥发去除热力学和动力学分析 | 第36-47页 |
| ·概述 | 第36页 |
| ·实验设备与实验方法 | 第36-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-46页 |
| ·铸锭金相组织 | 第38-39页 |
| ·铸锭中杂质分布规律 | 第39-42页 |
| ·杂质挥发去除的理论分析 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 4 电子束熔炼除磷研究 | 第47-56页 |
| ·概述 | 第47页 |
| ·实验材料及实验方法 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-55页 |
| ·质量损失 | 第48-50页 |
| ·电子束熔炼过程中杂质磷挥发去除行为 | 第50-52页 |
| ·电子束功率密度对除磷速率、硅挥发损失的影响 | 第52-54页 |
| ·除磷反应速率控制步骤 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 5 电子束熔炼去除硅中其它挥发性杂质元素 | 第56-62页 |
| ·概述 | 第56页 |
| ·实验材料及实验方法 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-61页 |
| ·钙、铝含量变化 | 第57-58页 |
| ·钙、铝挥发去除机理 | 第58-59页 |
| ·钙、铝去除反应速率控制步骤 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |