| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 透明电子学概述 | 第10-12页 |
| 1.2 n型透明半导体氧化物薄膜 | 第12-14页 |
| 1.3 p型透明半导体氧化物薄膜 | 第14-17页 |
| 1.3.1 二元Co-O薄膜 | 第14-17页 |
| 1.3.2 二元NiO薄膜 | 第17页 |
| 1.4 基于p-CoO_x/(NiO)的异质结的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.5 本论文立意和研究内容 | 第20-22页 |
| 2 实验原理和方法 | 第22-35页 |
| 2.1 概述 | 第22-23页 |
| 2.2 薄膜沉积技术 | 第23-28页 |
| 2.2.1 磁控溅射原理 | 第23-25页 |
| 2.2.2 脉冲直流反应磁控溅射 | 第25-28页 |
| 2.3 分析测试方法 | 第28-35页 |
| 2.3.1 X-射线衍射分析 | 第28-29页 |
| 2.3.2 拉曼光谱测试分析 | 第29-30页 |
| 2.3.3 固体紫外光吸收谱仪 | 第30-31页 |
| 2.3.4 四探针测电阻率 | 第31页 |
| 2.3.5 X-射线光电子能谱分析 | 第31-32页 |
| 2.3.6 p-n异质结的电学性能测试 | 第32-35页 |
| 3 CoO_x薄膜表征及其CoO_x-ZnO异质结的性能 | 第35-44页 |
| 3.1 CoO_x薄膜的制备 | 第35页 |
| 3.2 CoO_x薄膜的性能表征 | 第35-39页 |
| 3.2.1 XRD相分析 | 第35-36页 |
| 3.2.2 CoO_x拉曼光谱测试分析 | 第36-37页 |
| 3.2.3 CoO_x薄膜的光学性能 | 第37-39页 |
| 3.3 ZnO薄膜的制备和性能表征 | 第39-41页 |
| 3.3.1 XRD相分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 ZnO薄膜的光学性能 | 第40-41页 |
| 3.4 p-CoO_x/n-ZnO异质结的性能研究 | 第41-43页 |
| 3.4.1 p-n结的I-V曲线测试 | 第41-42页 |
| 3.4.2 p-n结的性能分析 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 NiO薄膜表征及其NiO-ZnO异质结的性能 | 第44-55页 |
| 4.1 NiO薄膜的制备 | 第44页 |
| 4.2 NiO薄膜的性能表征 | 第44-48页 |
| 4.2.1 XRD相分析 | 第44-45页 |
| 4.2.2 NiO薄膜的光学性能 | 第45-46页 |
| 4.2.3 NiO薄膜电阻率测试 | 第46-47页 |
| 4.2.4 NiO薄膜的X-射线光电子能谱测试 | 第47-48页 |
| 4.3 p-NiO/n-ZnO异质结的性能研究 | 第48-54页 |
| 4.3.1 p-NiO/n-ZnO异质结的I-V曲线测试 | 第49-50页 |
| 4.3.2 p-n结的性能参数分析 | 第50-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论及展望 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-66页 |
| 在读期间已发表的论文 | 第66页 |
