| 摘要 | 第12-13页 |
| Abstract | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第15-31页 |
| 1.1 课题的来源与意义 | 第15-18页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第15页 |
| 1.1.2 课题的研究背景与意义 | 第15-18页 |
| 1.2 烧结碳化硅光学零件加工研究现状 | 第18-22页 |
| 1.2.1 经典加工方法 | 第19-20页 |
| 1.2.2 新型加工技术 | 第20-22页 |
| 1.2.3 氧化辅助抛光 | 第22页 |
| 1.3 烧结碳化硅光学零件氧化辅助抛光的可行性分析 | 第22-30页 |
| 1.3.1 RB-Si C的成分分析 | 第22-23页 |
| 1.3.2 RB-Si C的可氧化性 | 第23-26页 |
| 1.3.3 氧化层的可抛光性 | 第26-30页 |
| 1.4 本研究的主要内容 | 第30-31页 |
| 第二章 烧结碳化硅氧化过程建模与分析 | 第31-51页 |
| 2.1 基于扩散原理的氧化过程分析 | 第31-38页 |
| 2.1.1 基于单向内扩散原理的氧化过程分析 | 第31-35页 |
| 2.1.2 基于双向扩散原理的氧化过程分析 | 第35-38页 |
| 2.2 阳极氧化过程建模与分析 | 第38-44页 |
| 2.2.1 阳极氧化过程建模 | 第39-41页 |
| 2.2.2 阳极氧化过程的宏观氧化层厚度分析 | 第41-43页 |
| 2.2.3 阳极氧化过程的微观氧化物形貌分析 | 第43-44页 |
| 2.3 等离子体氧化过程建模与分析 | 第44-47页 |
| 2.3.1 等离子体氧化过程建模 | 第44-46页 |
| 2.3.2 等离子体氧化过程的宏观氧化层厚度分析 | 第46-47页 |
| 2.3.3 等离子体氧化过程的微观氧化物形貌分析 | 第47页 |
| 2.4 热氧化过程建模与分析 | 第47-49页 |
| 2.4.1 热氧化过程建模 | 第47-48页 |
| 2.4.2 热氧化过程的宏观氧化层厚度分析 | 第48-49页 |
| 2.4.3 热氧化过程的微观氧化物形貌分析 | 第49页 |
| 2.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第三章 烧结碳化硅氧化辅助抛光实验系统设计与优化 | 第51-59页 |
| 3.1 阳极氧化辅助抛光系统设计与优化 | 第51-55页 |
| 3.1.1 设计目标 | 第51页 |
| 3.1.2 阳极氧化系统设计与优化 | 第51-53页 |
| 3.1.3 阳极氧化抛光系统设计与优化 | 第53-55页 |
| 3.2 等离子体氧化辅助抛光系统设计与优化 | 第55-57页 |
| 3.2.1 设计目标 | 第55页 |
| 3.2.2 等离子体氧化系统设计与优化 | 第55-57页 |
| 3.2.3 等离子体氧化抛光系统设计与优化 | 第57页 |
| 3.3 热氧化辅助抛光系统选型与设计 | 第57-58页 |
| 3.3.1 热氧化系统选型 | 第58页 |
| 3.3.2 热氧化分步抛光系统设计 | 第58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 烧结碳化硅氧化表面形貌特征检测与分析 | 第59-95页 |
| 4.1 阳极氧化表面形貌特征检测与分析 | 第59-81页 |
| 4.1.1 恒定电压下用双氧水加盐酸阳极氧化 | 第59-70页 |
| 4.1.2 恒定电压下用磷酸阳极氧化 | 第70-72页 |
| 4.1.3 高频方波电压下用双氧水加盐酸阳极氧化 | 第72-74页 |
| 4.1.4 高频方波电压下用磷酸阳极氧化 | 第74-76页 |
| 4.1.5 高频方波电压下用纯水阳极氧化 | 第76-81页 |
| 4.2 等离子体氧化表面形貌特征检测与分析 | 第81-87页 |
| 4.2.1 等离子体氧化表面形貌的检测 | 第81-85页 |
| 4.2.2 等离子体氧化微观特征的分析 | 第85-87页 |
| 4.3 热氧化表面形貌特征检测与分析 | 第87-93页 |
| 4.3.1 热氧化表面形貌的检测 | 第87-92页 |
| 4.3.2 热氧化微观特征的分析 | 第92-93页 |
| 4.4 本章小结 | 第93-95页 |
| 第五章 烧结碳化硅氧化辅助抛光加工特性的实验研究 | 第95-123页 |
| 5.1 阳极氧化辅助抛光加工特性的实验研究 | 第95-105页 |
| 5.1.1 阳极氧化深度的检测与分析 | 第95-96页 |
| 5.1.2 阳极氧化辅助抛光加工特性的理论分析 | 第96-97页 |
| 5.1.3 阳极氧化分步抛光加工特性的实验研究 | 第97-101页 |
| 5.1.4 阳极氧化同步抛光加工特性的实验研究 | 第101-105页 |
| 5.2 等离子体氧化辅助抛光加工特性的实验研究 | 第105-113页 |
| 5.2.1 等离子体氧化深度的检测与分析 | 第105-107页 |
| 5.2.2 等离子体氧化辅助抛光加工特性的理论分析 | 第107页 |
| 5.2.3 等离子体氧化分步抛光加工特性的实验研究 | 第107-111页 |
| 5.2.4 等离子体氧化同步抛光加工特性的实验研究 | 第111-113页 |
| 5.3 热氧化辅助抛光加工特性的实验研究 | 第113-122页 |
| 5.3.1 热氧化深度的检测与分析 | 第113-115页 |
| 5.3.2 热氧化辅助抛光加工特性的理论分析 | 第115-116页 |
| 5.3.3 热氧化分步抛光加工特性的实验研究 | 第116-122页 |
| 5.4 本章小结 | 第122-123页 |
| 第六章 总结与展望 | 第123-127页 |
| 6.1 总结 | 第123-125页 |
| 6.2 展望 | 第125-127页 |
| 致谢 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-139页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第139-140页 |
