| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 强磁场实验测量技术背景 | 第10-13页 |
| 1.2 稳态场下的磁光显微成像技术背景 | 第13-14页 |
| 1.3 脉冲强磁场下磁光系统的发展现状 | 第14-16页 |
| 1.4 本课题的研究意义 | 第16-18页 |
| 1.5 本文主要内容 | 第18-20页 |
| 2 磁光瞬态显微成像系统的研制 | 第20-70页 |
| 2.1 引言 | 第20-22页 |
| 2.2 装置整体结构 | 第22-24页 |
| 2.3 电源系统 | 第24-25页 |
| 2.4 脉冲磁体 | 第25-40页 |
| 2.5 低温及真空系统 | 第40-50页 |
| 2.6 成像采集系统 | 第50-59页 |
| 2.7 信号测量系统 | 第59-69页 |
| 2.8 小结 | 第69-70页 |
| 3 磁光显微成像系统下磁光克尔测试手段的验证 | 第70-85页 |
| 3.1 引言 | 第70-71页 |
| 3.2 样品制作及准备 | 第71-74页 |
| 3.3 CuFeO_2材料磁畴观察 | 第74-77页 |
| 3.4 CuFeO_2样品的磁光显微成像光强与材料表面磁化分析 | 第77-84页 |
| 3.5 小结 | 第84-85页 |
| 4 磁光显微成像系统下的NiMn记忆合金研究 | 第85-106页 |
| 4.1 引言 | 第85-87页 |
| 4.2 Ni_(44)Mn_(45)Sn_(11)磁记忆合金 | 第87-97页 |
| 4.3 NiMnInAl合金 | 第97-104页 |
| 4.4 小结 | 第104-106页 |
| 5 全文工作总结及展望 | 第106-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-116页 |
| 附录1 攻读博士期间发表的论文目录 | 第116页 |