| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 主要符号表 | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2.1 含活性剂液滴铺展机理 | 第11页 |
| 1.2.2 铺展液膜间的分离压作用 | 第11-12页 |
| 1.2.3 含活性剂液滴铺展不稳定现象 | 第12页 |
| 1.2.4 稳定性理论 | 第12页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 课题研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 分离压对波状基底上活性剂液滴铺展过程的影响 | 第15-30页 |
| 2.1 引言 | 第15页 |
| 2.2 理论模型及演化方程组 | 第15-20页 |
| 2.2.1 控制方程及边界条件 | 第15-18页 |
| 2.2.2 数值计算 | 第18-20页 |
| 2.3 分离压对液滴演化的影响 | 第20-28页 |
| 2.3.1 不考虑分离压时的铺展特性 | 第20-21页 |
| 2.3.2 考虑分离压时的铺展特性 | 第21-23页 |
| 2.3.3 关联系数a1的影响 | 第23-25页 |
| 2.3.4 关联系数a2的影响 | 第25-26页 |
| 2.3.5 基底高度及波数的影响 | 第26-27页 |
| 2.3.6 基底波峰波谷处的液膜高度特征 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 分离压对不同基底上含活性剂液滴铺展特征的影响 | 第30-37页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 数值模拟 | 第30-36页 |
| 3.2.1 数值模拟初始条件 | 第30-31页 |
| 3.2.2 无分离压作用下的演化特征 | 第31-33页 |
| 3.2.3 分离压作用下的演化特征 | 第33-35页 |
| 3.2.4 不同结构壁面上的液滴铺展速率 | 第35-36页 |
| 3.3 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 分离压作用下含活性剂液滴演化的稳定性特征 | 第37-50页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 理论模型及数值计算 | 第37-39页 |
| 4.2.1 基态与扰动态方程建立 | 第37-38页 |
| 4.2.2 瞬态增长法(TGA) | 第38页 |
| 4.2.3 初始及边界条件 | 第38-39页 |
| 4.3 稳定性分析 | 第39-45页 |
| 4.3.1 无分离压作用下的扰动演化历程 | 第39-41页 |
| 4.3.2 分离压作用下的扰动演化历程 | 第41-44页 |
| 4.3.3 长波作用下的稳定性分析 | 第44-45页 |
| 4.3.4 短波作用下的稳定性分析 | 第45页 |
| 4.4 分离压对稳定性的影响 | 第45-49页 |
| 4.4.1 引力强度系数a1影响 | 第45-47页 |
| 4.4.2 斥力强度系数a2影响 | 第47-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 结论与展望 | 第50-53页 |
| 5.1 结论 | 第50-51页 |
| 5.2 展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |