摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-30页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 WO_3纳米薄膜材料的制备方法 | 第11-17页 |
1.2.1 常规 WO_3纳米薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
1.2.2 WO_3纳米线薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
1.2.3 WO_3纳米孔薄膜和纳米管薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
1.3 WO_3纳米薄膜材料的改性 | 第17-23页 |
1.3.1 WO_3纳米薄膜材料的表面修饰 | 第17-19页 |
1.3.2 WO_3纳米薄膜材料的掺杂改性 | 第19-23页 |
1.4 WO_3纳米薄膜材料在环境领域的应用 | 第23-26页 |
1.4.1 污水处理 | 第23-24页 |
1.4.2 大气治理 | 第24-25页 |
1.4.3 环境监测 | 第25-26页 |
1.5 问题的提出 | 第26-29页 |
1.5.1 WO_3/W 纳米孔薄膜电极制备的研究 | 第26-28页 |
1.5.2 WO_3/W 纳米孔薄膜电极改性的研究 | 第28-29页 |
1.6 研究内容与技术路线 | 第29-30页 |
1.6.1 阳极氧化方法制备 WO_3/W 纳米孔薄膜电极条件的优化探索 | 第29页 |
1.6.2 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表面修饰改性 | 第29页 |
1.6.3 技术路线 | 第29-30页 |
第二章 实验准备与研究方法 | 第30-34页 |
2.1 实验仪器与试剂 | 第30-31页 |
2.1.1 实验仪器 | 第30页 |
2.1.2 实验药品试剂 | 第30-31页 |
2.2 阳极氧化法制备 WO_3/W 纳米孔薄膜电极 | 第31-32页 |
2.2.1 样品的预处理 | 第31页 |
2.2.2 电解质体系的选择 | 第31页 |
2.2.3 WO_3/W 纳米孔薄膜电极制备装置 | 第31-32页 |
2.2.4 阳极氧化法制备 WO_3/W 纳米孔薄膜电极过程 | 第32页 |
2.2.5 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表面修饰改性 | 第32页 |
2.3 研究方法 | 第32-34页 |
2.3.1 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表征方法 | 第32-33页 |
2.3.2 光电催化性能的测定方法 | 第33页 |
2.3.3 WO_3/W 纳米孔薄膜电极改性前后的稳定性研究 | 第33-34页 |
第三章 WO_3/W 纳米孔薄膜电极制备条件的研究 | 第34-53页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 电解质浓度的影响 | 第34-40页 |
3.3 阳极氧化电压的影响 | 第40-45页 |
3.4 阳极氧化时间的影响 | 第45-48页 |
3.5 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表征 | 第48-51页 |
3.5.1 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的 X 射线衍射分析(XRD) | 第48-50页 |
3.5.2 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的紫外可见漫反射光谱(UV-vis) | 第50-51页 |
3.6 光电催化降解有机物 | 第51页 |
3.7 本章小结 | 第51-53页 |
第四章 WO_3/W 纳米孔薄膜电极表面修饰改性的研究 | 第53-63页 |
4.1 引言 | 第53页 |
4.2 实验准备 | 第53页 |
4.3 WO_3/W 纳米孔薄膜电极表面沉积 Co-Pi 催化剂 | 第53-56页 |
4.3.1 外加电压的影响 | 第53-54页 |
4.3.2 沉积时间的影响 | 第54-56页 |
4.4 光电催化性能测定 | 第56-59页 |
4.4.1 光电流-电压曲线测定 | 第56-57页 |
4.4.2 光转化效率 | 第57-58页 |
4.4.3 稳定度测定 | 第58-59页 |
4.5 沉积后 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表征 | 第59-61页 |
4.5.1 紫外可见吸收光谱(UV-vis) | 第59-60页 |
4.5.2 X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第60-61页 |
4.6 本章小结 | 第61-63页 |
第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
5.1 结论 | 第63-64页 |
5.2 创新点 | 第64页 |
5.3 研究展望 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-72页 |
致谢 | 第72-74页 |
攻读硕士期间发表的学术成果 | 第74-75页 |
附件 | 第75页 |