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金属钨基三氧化钨纳米孔薄膜的制备及其光电催化性能

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第11-30页
    1.1 引言第11页
    1.2 WO_3纳米薄膜材料的制备方法第11-17页
        1.2.1 常规 WO_3纳米薄膜的制备方法第11-13页
        1.2.2 WO_3纳米线薄膜的制备方法第13-15页
        1.2.3 WO_3纳米孔薄膜和纳米管薄膜的制备方法第15-17页
    1.3 WO_3纳米薄膜材料的改性第17-23页
        1.3.1 WO_3纳米薄膜材料的表面修饰第17-19页
        1.3.2 WO_3纳米薄膜材料的掺杂改性第19-23页
    1.4 WO_3纳米薄膜材料在环境领域的应用第23-26页
        1.4.1 污水处理第23-24页
        1.4.2 大气治理第24-25页
        1.4.3 环境监测第25-26页
    1.5 问题的提出第26-29页
        1.5.1 WO_3/W 纳米孔薄膜电极制备的研究第26-28页
        1.5.2 WO_3/W 纳米孔薄膜电极改性的研究第28-29页
    1.6 研究内容与技术路线第29-30页
        1.6.1 阳极氧化方法制备 WO_3/W 纳米孔薄膜电极条件的优化探索第29页
        1.6.2 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表面修饰改性第29页
        1.6.3 技术路线第29-30页
第二章 实验准备与研究方法第30-34页
    2.1 实验仪器与试剂第30-31页
        2.1.1 实验仪器第30页
        2.1.2 实验药品试剂第30-31页
    2.2 阳极氧化法制备 WO_3/W 纳米孔薄膜电极第31-32页
        2.2.1 样品的预处理第31页
        2.2.2 电解质体系的选择第31页
        2.2.3 WO_3/W 纳米孔薄膜电极制备装置第31-32页
        2.2.4 阳极氧化法制备 WO_3/W 纳米孔薄膜电极过程第32页
        2.2.5 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表面修饰改性第32页
    2.3 研究方法第32-34页
        2.3.1 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表征方法第32-33页
        2.3.2 光电催化性能的测定方法第33页
        2.3.3 WO_3/W 纳米孔薄膜电极改性前后的稳定性研究第33-34页
第三章 WO_3/W 纳米孔薄膜电极制备条件的研究第34-53页
    3.1 引言第34页
    3.2 电解质浓度的影响第34-40页
    3.3 阳极氧化电压的影响第40-45页
    3.4 阳极氧化时间的影响第45-48页
    3.5 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表征第48-51页
        3.5.1 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的 X 射线衍射分析(XRD)第48-50页
        3.5.2 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的紫外可见漫反射光谱(UV-vis)第50-51页
    3.6 光电催化降解有机物第51页
    3.7 本章小结第51-53页
第四章 WO_3/W 纳米孔薄膜电极表面修饰改性的研究第53-63页
    4.1 引言第53页
    4.2 实验准备第53页
    4.3 WO_3/W 纳米孔薄膜电极表面沉积 Co-Pi 催化剂第53-56页
        4.3.1 外加电压的影响第53-54页
        4.3.2 沉积时间的影响第54-56页
    4.4 光电催化性能测定第56-59页
        4.4.1 光电流-电压曲线测定第56-57页
        4.4.2 光转化效率第57-58页
        4.4.3 稳定度测定第58-59页
    4.5 沉积后 WO_3/W 纳米孔薄膜电极的表征第59-61页
        4.5.1 紫外可见吸收光谱(UV-vis)第59-60页
        4.5.2 X 射线光电子能谱分析(XPS)第60-61页
    4.6 本章小结第61-63页
第五章 结论与展望第63-65页
    5.1 结论第63-64页
    5.2 创新点第64页
    5.3 研究展望第64-65页
参考文献第65-72页
致谢第72-74页
攻读硕士期间发表的学术成果第74-75页
附件第75页

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