中文摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 前言 | 第10页 |
1.2 超级电容器 | 第10-14页 |
1.2.1 超级电容器的工作原理 | 第10-12页 |
1.2.2 超级电容器的特点 | 第12-13页 |
1.2.3 超级电容器的应用 | 第13-14页 |
1.3 石墨烯 | 第14-18页 |
1.3.1 石墨烯的结构 | 第15页 |
1.3.2 石墨烯的性质 | 第15-16页 |
1.3.3 石墨烯的制备方法 | 第16-18页 |
1.4 氢氧化镍 | 第18-22页 |
1.4.1 氢氧化镍的结构 | 第18-19页 |
1.4.2 氢氧化镍的电化学反应机理 | 第19-21页 |
1.4.3 氢氧化镍的制备方法 | 第21-22页 |
1.5 Ni(OH)_2/石墨烯复合材料 | 第22-24页 |
1.6 本论文研究内容及意义 | 第24-26页 |
第2章 实验试剂、仪器及测试方法 | 第26-36页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第26-27页 |
2.1.1 实验试剂 | 第26-27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27页 |
2.2 材料物理测试方法 | 第27-31页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第27-28页 |
2.2.2 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第28页 |
2.2.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
2.2.4 透射电子显微镜(TEM) | 第28-29页 |
2.2.5 拉曼光谱(Raman) | 第29页 |
2.2.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
2.2.7 热重分析(TGA) | 第30页 |
2.2.8 N2等温吸脱附测试 | 第30页 |
2.2.9 Zeta电位测试 | 第30-31页 |
2.3 材料电化学测试方法 | 第31-36页 |
2.3.1 三电极体系 | 第31-32页 |
2.3.2 循环伏安测试(CV) | 第32-33页 |
2.3.3 恒电流充放电测试(GCD) | 第33-34页 |
2.3.4 交流阻抗测试(EIS) | 第34-36页 |
第3章 石墨烯的制备及表征 | 第36-48页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 石墨烯的制备 | 第36-38页 |
3.2.1 氧化石墨的制备 | 第36-37页 |
3.2.2 石墨烯的制备 | 第37页 |
3.2.3 工作电极的制备 | 第37-38页 |
3.3 石墨烯的表征 | 第38-45页 |
3.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第38-39页 |
3.3.2 傅里叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第39-40页 |
3.3.3 Zeta电位分析 | 第40页 |
3.3.4 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第40-41页 |
3.3.5 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第41-42页 |
3.3.6 循环伏安(CV)分析 | 第42-43页 |
3.3.7 恒电流充放电(GCD)分析 | 第43-45页 |
3.3.8 循环性能分析 | 第45页 |
3.4 本章小结 | 第45-48页 |
第4章 Ni(OH)_2的制备及表征 | 第48-66页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 Ni(OH)_2的制备 | 第48-49页 |
4.3 正交实验设计及结果分析 | 第49-56页 |
4.3.1 正交实验方案设计 | 第49-50页 |
4.3.2 正交实验结果分析 | 第50-52页 |
4.3.3 正交实验样品扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第52-56页 |
4.4 最佳制备工艺条件下Ni(OH)_2材料的表征 | 第56-63页 |
4.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第56-57页 |
4.4.2 N_2等温吸脱附实验分析 | 第57-58页 |
4.4.3 Zeta电位分析 | 第58-59页 |
4.4.4 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第59页 |
4.4.5 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第59-61页 |
4.4.6 循环伏安测试(CV)分析 | 第61-62页 |
4.4.7 恒电流充放电(GCD)分析 | 第62-63页 |
4.5 本章小结 | 第63-66页 |
第5章 Ni(OH)_2/rGO复合材料的制备及表征 | 第66-92页 |
5.1 引言 | 第66页 |
5.2 Ni(OH)_2/rGO复合材料的制备 | 第66-67页 |
5.3 Ni(OH)_2/rGO正交实验设计及结果分析 | 第67-77页 |
5.3.1 正交实验方案设计 | 第67-69页 |
5.3.2 正交实验结果分析 | 第69-72页 |
5.3.3 正交实验样品扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第72-77页 |
5.4 最佳制备工艺条件下Ni(OH)_2/rGO复合材料的表征 | 第77-90页 |
5.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第78-79页 |
5.4.2 热重分析(TGA) | 第79-80页 |
5.4.3 N_2等温吸脱附实验分析 | 第80-81页 |
5.4.4 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第81页 |
5.4.5 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第81-83页 |
5.4.6 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第83-84页 |
5.4.7 拉曼光谱(Raman)分析 | 第84-85页 |
5.4.8 循环伏安测试(CV)分析 | 第85-86页 |
5.4.9 恒电流充放电测试(GCD)分析 | 第86-89页 |
5.4.10 交流阻抗测试(EIS)分析 | 第89-90页 |
5.5 本章小结 | 第90-92页 |
第6章 结论与展望 | 第92-94页 |
6.1 主要结论 | 第92-93页 |
6.2 工作展望 | 第93-94页 |
参考文献 | 第94-102页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第102-104页 |
致谢 | 第104-105页 |