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利用表面修饰降低纳米氧化铈和氧化镧对植物的毒性研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
符号说明第8-11页
1 文献综述第11-24页
    1.1 研究背景第11-23页
        1.1.1 稀土材料的定义第11页
        1.1.2 纳米颗粒的定义及应用第11-13页
        1.1.3 纳米材料植物毒性的研究现状第13-17页
        1.1.4 纳米材料植物毒性的研究方法第17-23页
            1.1.4.1 纳米材料的植物毒性效应方法第17-19页
            1.1.4.2 纳米材料在植物中的吸收、转运和转化研究第19-23页
    1.2 研究内容及意义第23-24页
2 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2对生菜的毒性效应研究第24-38页
    2.1 引言第24-26页
    2.2 材料与方法第26-30页
        2.2.1 试剂与仪器第26-27页
        2.2.2. 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2的制备第27页
        2.2.3 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2的表征第27页
        2.2.4 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2对生菜的毒性测试第27-30页
            2.2.4.1 生菜的培养与纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2的暴露第27-28页
            2.2.4.2 ICP-MS分析仪测定生菜根部Ce的含量第28页
            2.2.4.3 生菜的酶活性的测定第28-30页
            2.2.4.4 生菜根部的TEM检测第30页
    2.3 实验结果与讨论第30-37页
        2.3.1 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2的XRD结果第30-31页
        2.3.2 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2的SEM分析第31页
        2.3.3 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2的TG分析第31-32页
        2.3.4 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2对生菜的毒性影响第32-37页
            2.3.4.1 纳米CeO_2及修饰后纳米CeO_2对生菜生长的影响第32-33页
            2.3.4.2 纳米CeO_2及修饰后纳米CeO_2生菜根部Ce的含量影响第33-34页
            2.3.4.3 纳米CeO_2及修饰后纳米CeO_2生菜的酶活性影响第34-36页
            2.3.4.4 纳米CeO_2、ATMP@CeO_2和EDTMP@CeO_2在生菜根部组织中的的分布第36-37页
    2.4 小结第37-38页
3 纳米La_2O_3、ATMP@La_2O_3和EDTMP@La_2O_3的对黄瓜的毒性效应研究第38-47页
    3.1 引言第38-39页
    3.2 材料与方法第39-41页
        3.2.1 试剂与仪器第39页
            3.2.1.1 实验试剂第39页
            3.2.1.2 实验仪器第39页
        3.2.2 实验方法第39-41页
            3.2.2.1 La_2O_3的修饰方法及悬浮液的配制第39-40页
            3.2.2.2 La_2O_3的表征第40页
            3.2.2.3 黄瓜培养与暴露第40页
            3.2.2.4 黄瓜根组织的La分布情况观察第40-41页
    3.3 实验结果与讨论第41-46页
        3.3.1 纳米La_2O_3、ATMP@La_2O_3和EDTMP@La_2O_3的SEM检测第41页
        3.3.2 纳米La_2O_3、ATMP@La_2O_3和EDTMP@La_2O_3的XRD分析第41-43页
        3.3.3 纳米La_2O_3、ATMP@La_2O_3和EDTMP@La_2O_3的TG分析第43-44页
        3.3.4 纳米La_2O_3、EDTMP@La_2O_3和ATMP@La_2O_3对黄瓜根伸长量的影响第44-45页
        3.3.5 La在植物根部组织中的分布第45-46页
    3.4 小结第46-47页
4 总结与展望第47-49页
    4.1 总结第47-48页
    4.2 展望第48-49页
参考文献第49-56页
致谢第56页

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