摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 文献综述 | 第9-21页 |
1.1 课题背景 | 第9-10页 |
1.2 数值模拟方法 | 第10-15页 |
1.2.1 搅拌设备的模拟进展 | 第10-11页 |
1.2.2 两相流模型在模拟中的应用 | 第11-15页 |
1.2.3 UDF在FLUENT中的应用 | 第15页 |
1.3 流动显示技术 | 第15-17页 |
1.3.1 激光测速技术 | 第15-16页 |
1.3.2 全息照相和全息干涉术 | 第16-17页 |
1.3.3 高速CCD摄像法 | 第17页 |
1.4 颗粒受力问题的研究现状 | 第17-18页 |
1.5 选题意义及研究内容 | 第18-21页 |
1.5.1 选题意义 | 第18页 |
1.5.2 研究内容 | 第18-21页 |
第2章 实验机全满流条件下的模拟及实验验证 | 第21-45页 |
2.1 实验机的模型建立 | 第21-26页 |
2.1.1 实验机几何模型建立 | 第22-23页 |
2.1.2 实验机网格划分 | 第23-24页 |
2.1.3 实验机全满流模拟的边界条件设置 | 第24-26页 |
2.2 实验机的全满流模拟过程 | 第26-32页 |
2.2.1 实验机的全满流物理模型选择 | 第26-27页 |
2.2.2 实验机的全满流求解器设置 | 第27-28页 |
2.2.3 DPM追踪 | 第28-32页 |
2.3 全满流实验过程 | 第32-39页 |
2.3.1 全满流实验系统 | 第32-36页 |
2.3.2 全满流实验装置 | 第36-38页 |
2.3.3 全满流实验步骤 | 第38-39页 |
2.4 全满流的模拟和实验结果比对 | 第39-44页 |
2.4.1 全满流示踪粒子轨迹分析 | 第39-41页 |
2.4.2 全满流模拟中物料停留时间的分析 | 第41-44页 |
本章小结 | 第44-45页 |
第3章 工业装置非满流条件下的模拟 | 第45-57页 |
3.1 工业装置的模型及工艺条件 | 第45-46页 |
3.2 工业装置非满流的模拟方法 | 第46-48页 |
3.2.1 工业装置非满流模拟的物理方法 | 第46页 |
3.2.2 工业装置非满流模拟的求解方法 | 第46-48页 |
3.3 工业装置非满流模拟的结果分析 | 第48-56页 |
3.3.1 工业装置非满流模拟中物料停留时间的分析 | 第48-51页 |
3.3.2 工业装置非满流情况的粒子轨迹分析 | 第51-52页 |
3.3.3 工业装置接触面分析 | 第52-55页 |
3.3.4 工业装置的功耗分析 | 第55-56页 |
本章小结 | 第56-57页 |
第4章 工业装置的传热计算 | 第57-63页 |
4.1 工业装置传热计算的方法 | 第57-60页 |
4.2 工业装置传热计算的结果分析 | 第60-63页 |
第5章 结论与展望 | 第63-65页 |
5.1 主要工作的结论 | 第63-64页 |
5.2 展望 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
附录 | 第71-75页 |
发表论文和科研情况说明 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |