| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及研究目的意义 | 第9-10页 |
| 1.2 AZO 透明导电薄膜研究现状 | 第10-16页 |
| 1.2.1 AZO 薄膜不同制备方法的研究 | 第11-13页 |
| 1.2.2 AZO 薄膜工艺条件的研究 | 第13-15页 |
| 1.2.3 多层膜结构的研究 | 第15-16页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 薄膜的制备方法及表征手段 | 第18-28页 |
| 2.1 实验装置和原理 | 第18-20页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第18页 |
| 2.1.2 磁控溅射原理 | 第18-19页 |
| 2.1.3 磁控溅射参数 | 第19-20页 |
| 2.2 AZO 薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验相关材料准备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 AZO 薄膜的沉积过程 | 第21-22页 |
| 2.2.3 AZO 薄膜的制备条件 | 第22页 |
| 2.3 AZO/Al/AZO 三层膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.3.1 AZO/Al/AZO 三层膜的沉积过程 | 第22-23页 |
| 2.3.2 AZO/Al/AZO 三层膜的制备参数 | 第23页 |
| 2.4 ZnO/Ag/ZnO 三层膜的制备 | 第23-24页 |
| 2.4.1 ZnO/Ag/ZnO 三层膜的沉积过程 | 第23-24页 |
| 2.4.2 ZnO/Ag/ZnO 三层膜的制备参数 | 第24页 |
| 2.5 薄膜结构性能表征方法和原理 | 第24-28页 |
| 2.5.1 薄膜结构表征 | 第24-25页 |
| 2.5.2 薄膜厚度测量 | 第25页 |
| 2.5.3 薄膜形貌和元素含量分析 | 第25-26页 |
| 2.5.4 薄膜光学性能表征 | 第26页 |
| 2.5.5 薄膜电学性能表征 | 第26-28页 |
| 第3章 AZO 薄膜的制备及其光电性能研究 | 第28-47页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 AZO 薄膜制备工艺参数的研究 | 第28-33页 |
| 3.2.1 溅射功率对 AZO 薄膜结构的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 氧氩比对 AZO 薄膜结构的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.3 溅射气压对 AZO 薄膜结构和形貌的影响 | 第31-33页 |
| 3.3 不同 Al 掺杂含量对 AZO 薄膜结构性能影响 | 第33-42页 |
| 3.3.1 Al 掺杂含量对 AZO 薄膜结构影响 | 第35-36页 |
| 3.3.2 Al 掺杂含量对 AZO 薄膜表面形貌影响 | 第36-39页 |
| 3.3.3 Al 掺杂含量对 AZO 薄膜光学性能影响 | 第39-41页 |
| 3.3.4 Al 掺杂含量对 AZO 薄膜电学性能影响 | 第41-42页 |
| 3.4 厚度对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.4.1 厚度对 AZO 薄膜结构的影响 | 第42-43页 |
| 3.4.2 厚度对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第43页 |
| 3.5 衬底温度对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第43-45页 |
| 3.5.1 衬底温度对 AZO 薄膜结构的影响 | 第44页 |
| 3.5.2 衬底温度对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 ZnO 基多层膜的制备及其结构性能研究 | 第47-62页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 AZO/Al/AZO 薄膜 | 第47-53页 |
| 4.2.1 Al 层厚度对 AZO/Al/AZO 性能影响 | 第47-50页 |
| 4.2.2 AZO 层厚度对 AZO/Al/AZO 性能影响 | 第50-53页 |
| 4.3 ZnO/Ag/ZnO 薄膜 | 第53-60页 |
| 4.3.1 Ag 层厚度对 ZnO/Ag/ZnO 薄膜性能影响 | 第53-58页 |
| 4.3.2 ZnO 层厚度对 ZnO/Ag/ZnO 薄膜性能影响 | 第58-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
