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磁控溅射法制备BN薄膜结构和ZAO/BN/ZAO薄膜电性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-17页
    1.1 引言第7页
    1.2 BN 晶体结构及其相变第7-10页
    1.3 BN 薄膜及其基本特征第10-14页
        1.3.1 BN 薄膜的物理化学性质第10-11页
        1.3.2 BN 薄膜晶体缺陷第11-12页
        1.3.3 BN 薄膜的掺杂及电性能研究第12-14页
    1.4 ZnO 低压压敏电阻研究第14-16页
        1.4.1 ZnO 的结构及性能特点第14-15页
        1.4.2 低压 ZnO 压敏电阻原理及研究现状第15-16页
    1.5 本课题的研究内容及意义第16-17页
第二章 实验方法和表征原理第17-23页
    2.1 样品的制备方法和过程第17-18页
    2.2 薄膜结构表征技术及方法第18-21页
        2.2.1 傅里叶变换红外光谱(FTIR)第18-19页
        2.2.2 X 射线衍射(XRD)第19-20页
        2.2.3 原子力显微镜(AFM)第20-21页
    2.3 V-I 曲线的测量方法第21-23页
第三章 BN 薄膜结构研究第23-37页
    3.1 工作压强对 BN 薄膜结构的影响第23-26页
    3.2 溅射介质对 BN 结构的影响第26-29页
    3.3 溅射功率对沉积薄膜的影响第29-32页
    3.4 衬底温度对 BN 结构的影响第32-34页
    3.5 负偏压对 BN 结构的影响第34-37页
第四章 BN/ZnO 叠层薄膜电性能研究第37-42页
    4.1 氮气含量对 ZAO/BN/ZAO 电性能的影响第37-40页
    4.2 负偏压对 ZAO/BN/ZAO 电性能的影响第40-42页
全文总结第42-43页
参考文献第43-47页
攻读硕士期间发表的论文第47-48页
致谢第48页

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