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超疏水纳米二氧化硅表面的制备与性能研究

中文摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-28页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 超疏水表面的理论基础第12-15页
        1.2.1 接触角第12-13页
        1.2.2 表面能第13页
        1.2.3 表面粗糙度第13-14页
        1.2.4 Wenzel方程第14页
        1.2.5 Cassie-Baxter’s方程第14-15页
        1.2.6 Cassie和Wenzel状态之间的转换第15页
    1.3 超疏水表面的制备第15-24页
        1.3.1 超疏水表面第15-16页
        1.3.2 疏水表面的制备方法第16-23页
            1.3.2.1 微模板印刷法第16-17页
            1.3.2.2 模板法第17-18页
            1.3.2.3 静电纺丝法第18-19页
            1.3.2.4 溶胶-凝胶法第19页
            1.3.2.5 层层自组装第19-20页
            1.3.2.6 刻蚀法第20-21页
            1.3.2.7 化学气相沉积法第21页
            1.3.2.8 电化学法第21-22页
            1.3.2.9 相分离法第22-23页
        1.3.3 纳/微二元结构第23-24页
            1.3.3.1 荷叶的分等级结构第23页
            1.3.3.2 颗粒的团聚第23-24页
    1.4 超疏水表面的应用及发展前景第24-27页
        1.4.1 自清洁涂层的荷叶效应第24页
        1.4.2 表面保护第24-25页
        1.4.3 纺织业第25页
        1.4.4 水的运输第25页
        1.4.5 微流体第25页
        1.4.6 油水分离第25-26页
        1.4.7 超疏水粉末的应用第26页
        1.4.8 发展前景第26-27页
    1.5 本论文的选题依据及研究内容第27-28页
第二章 超疏水薄膜的制备第28-43页
    2.1 引言第28页
    2.2 实验部分第28-30页
        2.2.1 试剂与仪器第28-29页
        2.2.2 分析表征第29页
        2.2.3 实验方法第29-30页
            2.2.3.1 载玻片的表面清洗第29页
            2.2.3.2 二氧化硅溶胶的制备第29页
            2.2.3.3 超疏水薄膜的制备第29-30页
            2.2.3.4 改性SiO_2薄膜表面制备疏水表面第30页
            2.2.3.5 腐蚀试验第30页
        2.2.4 表征第30页
    2.3 结果与讨论第30-41页
        2.3.0 二氧化硅溶胶分析第30-32页
        2.3.1 六甲基二硅氮烷为疏水剂改性制备疏水薄膜第32-35页
            2.3.1.1 反应机理第32-33页
            2.3.1.2 反应时间对薄膜接触角的影响第33页
            2.3.1.3 反应温度对薄膜接触角的影响第33-34页
            2.3.1.4 反应时间及反应温度对薄膜透过率的影响第34-35页
        2.3.2 三甲基氯硅烷为改性剂制备疏水膜第35-39页
            2.3.2.1 反应机理第35页
            2.3.2.2 反应时间对薄膜接触角的影响第35-36页
            2.3.2.3 反应温度对薄膜接触角的影响第36-37页
            2.3.2.4 反应时间对薄膜透过率的影响第37-38页
            2.3.2.5 薄膜的表面形貌观察第38-39页
        2.3.3 改性二氧化硅薄膜制备疏水表面第39-40页
        2.3.4 改性剂TMCS与HMDS的比较第40-41页
        2.3.5 腐蚀试验第41页
    2.4 结论第41-43页
第三章 超疏水粉末的制备第43-54页
    3.1 引言第43页
    3.2 实验部分第43-45页
        3.2.1 试剂和仪器第43-44页
        3.2.2 分析表征第44页
        3.2.3 实验方法第44-45页
            3.2.3.1 二氧化硅粉末的制备第44-45页
            3.2.3.2 超疏水粉末的制备第45页
            3.2.3.3 掺杂SiO_2粉末制备疏水薄膜第45页
        3.2.4 表征第45页
    3.3 结果与讨论第45-53页
        3.3.1 粉末的疏水性能第45-46页
        3.3.2 粉末的形貌分析第46-49页
        3.3.3 超疏水粉末的红外光谱分析第49-50页
        3.3.4 粉末的热分析第50-51页
        3.3.5 掺杂SiO_2粉末制备的疏水薄膜第51页
        3.3.6 粉末具有疏水性能的原因第51-53页
    3.4 结论第53-54页
第四章 结论第54-56页
致谢第56-57页
参考文献第57-62页
硕士期间所获成果第62页

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