| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 引言 | 第12-18页 |
| 1.1 大型高功率固体激光装置 | 第12-14页 |
| 1.2 熔石英光学元件的紫外激光损伤 | 第14-16页 |
| 1.3 本论文研究内容 | 第16-18页 |
| 2 熔石英光学元件的激光诱导损伤 | 第18-29页 |
| 2.1 激光诱导损伤的宏观表现 | 第18-19页 |
| 2.2 激光诱导损伤的产生机理 | 第19-26页 |
| 2.2.1 激光诱导损伤的微观电离机制 | 第20-22页 |
| 2.2.2 杂质起始的热爆炸模型 | 第22-24页 |
| 2.2.3 基于热爆炸模型的损伤坑形成的现象学理论 | 第24-25页 |
| 2.2.4 吸收波前模型 | 第25-26页 |
| 2.3 激光诱导损伤阈值及其表征方法 | 第26-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 熔石英光学元件的激光吸收性缺陷 | 第29-45页 |
| 3.1 吸收性杂质 | 第29-31页 |
| 3.2 分子结构缺陷 | 第31-39页 |
| 3.2.1 化学无序 | 第31-36页 |
| 3.2.2 物理无序 | 第36-39页 |
| 3.3 加工过程中吸收性缺陷的引入 | 第39-44页 |
| 3.3.1 样品制备 | 第40页 |
| 3.3.2 实验结果与讨论 | 第40-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 HF酸刻蚀技术提高熔石英光学元件的损伤阈值 | 第45-60页 |
| 4.1 HF酸溶液的基本性质 | 第45-46页 |
| 4.2 HF酸刻蚀熔石英的反应速率模型 | 第46-48页 |
| 4.2.1 HF酸刻蚀反应速率模型 | 第46-47页 |
| 4.2.2 刻蚀反应速率曲线 | 第47-48页 |
| 4.3 HF酸刻蚀工艺技术 | 第48-51页 |
| 4.4 HF酸刻蚀对亚表面划痕的钝化 | 第51-52页 |
| 4.5 损伤阈值随刻蚀深度的提高 | 第52-58页 |
| 4.5.1 超声波辅助刻蚀实验 | 第52-56页 |
| 4.5.2 兆声波辅助刻蚀实验 | 第56-58页 |
| 4.6 损伤坑的刻蚀 | 第58-59页 |
| 4.7 本章小结 | 第59-60页 |
| 5 元件面型精度随刻蚀深度的退化 | 第60-73页 |
| 5.1 元件整体形貌的退化 | 第60-62页 |
| 5.1.1 PV值 | 第60-61页 |
| 5.1.2 表面粗糙度 | 第61-62页 |
| 5.2 周期性表面结构 | 第62-64页 |
| 5.3 元件表面沉积物堆积 | 第64-66页 |
| 5.4 刻蚀产生表面周期结构的机理分析 | 第66-72页 |
| 5.4.1 刻蚀液中的流体动力学现象 | 第66-67页 |
| 5.4.2 刻蚀槽中声场的分布计算 | 第67-72页 |
| 5.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 6 HF酸刻蚀的数值模拟 | 第73-84页 |
| 6.1 有限差分方法 | 第73-79页 |
| 6.1.1 有限差分模型和数值计算方法 | 第73-77页 |
| 6.1.2 压痕仿真实验和结果 | 第77-79页 |
| 6.2 有限元模拟 | 第79-83页 |
| 6.2.1 模型的建立 | 第79-80页 |
| 6.2.2 计算结果与讨论 | 第80-83页 |
| 6.3 本章小结 | 第83-84页 |
| 7 结论 | 第84-88页 |
| 7.1 全文总结 | 第84-86页 |
| 7.2 创新点 | 第86-87页 |
| 7.3 展望 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-94页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第94-98页 |
| 学位论文数据集 | 第98页 |