| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 常规离子浓度检测方法 | 第9-11页 |
| 1.1.1 滴定分析法 | 第9页 |
| 1.1.2 离子色谱法 | 第9-10页 |
| 1.1.3 光谱法 | 第10-11页 |
| 1.2 熔盐电化学检测方法 | 第11-16页 |
| 1.2.1 循环伏安法 | 第11-13页 |
| 1.2.2 计时电位法 | 第13-14页 |
| 1.2.3 方波伏安法 | 第14-15页 |
| 1.2.4 常规脉冲伏安法 | 第15-16页 |
| 1.2.5 计时电流法 | 第16页 |
| 1.3 熔盐电化学方法检测技术研究现状 | 第16-20页 |
| 1.4 论文的选题意义和主要内容 | 第20-22页 |
| 1.4.1 论文的选题意义 | 第20-21页 |
| 1.4.2 主要内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-29页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第22页 |
| 2.2 KCl-LiCl熔盐体系及原料 | 第22-24页 |
| 2.3 三电极体系 | 第24-26页 |
| 2.4 实验装置 | 第26-28页 |
| 2.5 研究技术路线 | 第28-29页 |
| 第三章 La(ⅡI)离子在KCl-LiCl熔体中的浓度检测 | 第29-43页 |
| 3.1 KCl-LiCl电解质体系的稳定性分析 | 第30页 |
| 3.2 循环伏安法检测KCl-LiCl熔体中La(ⅡI)离子浓度 | 第30-37页 |
| 3.2.1 工作电极在不同深度下的循环伏安曲线 | 第30-32页 |
| 3.2.2 工作电极在不同扫描速率下的循环伏安曲线 | 第32-34页 |
| 3.2.3 循环伏安法数值分析、方程预测及验证 | 第34-37页 |
| 3.3 计时电位法检测KCl-LiCl熔体中La(ⅡI)离子浓度 | 第37-42页 |
| 3.3.1 不同深度下的计时电位曲线 | 第37-38页 |
| 3.3.2 计时电位曲线 | 第38-39页 |
| 3.3.3 计时电位法数值分析、方程预测及验证 | 第39-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Mg(Ⅱ)离子在KCl-LiCl熔体中的浓度检测 | 第43-58页 |
| 4.1 KCl-LiCl电解质体系的稳定性分析 | 第44页 |
| 4.2 循环伏安法检测KCl-LiCl熔体中Mg(Ⅱ)离子浓度 | 第44-51页 |
| 4.2.1 不同深度下的循环伏安曲线 | 第44-46页 |
| 4.2.2 不同扫描速率下的循环伏安曲线 | 第46-47页 |
| 4.2.3 循环伏安法数值分析、方程预测及验证 | 第47-51页 |
| 4.3 计时电位法检测KCl-LiCl熔体中Mg(Ⅱ)离子浓度 | 第51-56页 |
| 4.3.1 不同深度下的计时电位曲线 | 第51-52页 |
| 4.3.2 计时电位曲线 | 第52-53页 |
| 4.3.3 计时电位法数值分析、方程预测及验证 | 第53-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 La(ⅡI)和Mg(Ⅱ)离子在KCl-LiCl熔体中共存时的浓度检测 | 第58-70页 |
| 5.2 循环伏安法检测KCl-LiCl熔体中La(ⅡI)和Mg(Ⅱ)离子浓度 | 第58-64页 |
| 5.2.1 不同深度下的循环伏安曲线 | 第58-60页 |
| 5.2.2 不同扫描速率下的循环伏安曲线 | 第60-63页 |
| 5.2.3 循环伏安法数值分析 | 第63-64页 |
| 5.3 计时电位法检测KCl-LiCl熔体中La(ⅡI)和Mg(Ⅱ)离子浓度 | 第64-69页 |
| 5.3.1 不同深度下的计时电位曲线 | 第64-66页 |
| 5.3.2 计时电位曲线 | 第66-67页 |
| 5.3.3 计时电位法数值分析 | 第67-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 结论 | 第70-71页 |
| 6.2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第77-78页 |
