摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1 绪论 | 第14-25页 |
1.1 研究背景、目的和意义 | 第14-16页 |
1.2 国内外研究现状 | 第16-20页 |
1.2.1 五元杂环并连四嗪的研究现状 | 第16-17页 |
1.2.2 六元环并连四嗪的研究现状 | 第17-20页 |
1.2.3 其它连四嗪化合物的研究现状 | 第20页 |
1.3 主要研究内容 | 第20-21页 |
参考文献 | 第21-25页 |
2 研究方法简介 | 第25-33页 |
2.1 量子化学方法 | 第25-27页 |
2.2 福井函数和双描述符理论 | 第27-28页 |
2.3 “量化后”计算方法 | 第28-30页 |
2.3.1 生成热 | 第28-29页 |
2.3.2 密度 | 第29页 |
2.3.3 键离解能和撞击感度 | 第29页 |
2.3.4 爆轰性能 | 第29-30页 |
参考文献 | 第30-33页 |
3 氧化呋咱并连四嗪化合物 | 第33-45页 |
3.1 前言 | 第33-34页 |
3.2 计算细节 | 第34页 |
3.3 分子结构和静电势 | 第34-35页 |
3.4 生成热和爆轰性能 | 第35-36页 |
3.5 热稳定性、分解机理和感度 | 第36-39页 |
3.6 合成路线的预测 | 第39-41页 |
3.7 本章小结 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-45页 |
4 唑类杂环并连四嗪化合物 | 第45-65页 |
4.1 前言 | 第45-46页 |
4.2 计算细节 | 第46页 |
4.3 1,2,3-三唑并连四嗪化合物 | 第46-52页 |
4.3.1 分子结构 | 第47-48页 |
4.3.2 生成热和爆轰性能 | 第48-50页 |
4.3.3 热稳定性和感度 | 第50-52页 |
4.4 吡唑并连四嗪化合物 | 第52-57页 |
4.4.1 分子结构 | 第52-53页 |
4.4.2 生成热和爆轰性能 | 第53-56页 |
4.4.3 热稳定性和感度 | 第56-57页 |
4.5 咪唑、噁唑并连四嗪化合物 | 第57-62页 |
4.5.1 分子结构 | 第58-59页 |
4.5.2 生成热和爆轰性能 | 第59-61页 |
4.5.3 热稳定性和感度 | 第61-62页 |
4.6 本章小结 | 第62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
5 苯和吡啶并连四嗪化合物 | 第65-79页 |
5.1 前言 | 第65页 |
5.2 计算细节 | 第65-66页 |
5.3 苯并连四嗪化合物 | 第66-68页 |
5.3.1 分子结构 | 第66-67页 |
5.3.2 亲电位点预测 | 第67-68页 |
5.3.3 生成热和爆轰性能 | 第68页 |
5.4 吡啶并连四嗪化合物 | 第68-76页 |
5.4.1 分子结构和静电势 | 第68-70页 |
5.4.2 亲电位点预测 | 第70-73页 |
5.4.3 生成热和爆轰性能 | 第73-76页 |
5.5 本章小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-79页 |
6 六元高氮杂环并连四嗪高能低感炸药的设计方法 | 第79-102页 |
6.1 前言 | 第79-80页 |
6.2 计算细节 | 第80页 |
6.3 六元高氮杂环并连四嗪分子配位氧的位置与稳定性的关联规律 | 第80-84页 |
6.4 六元高氮杂环并连四嗪化合物的亲电位点研究 | 第84-96页 |
6.5 几种连四嗪高能低感炸药候选物 | 第96-99页 |
6.5.1 分子结构和静电势 | 第96-97页 |
6.5.2 生成热和爆轰性能 | 第97-99页 |
6.5.3 热稳定性和感度 | 第99页 |
6.6 结论 | 第99-100页 |
参考文献 | 第100-102页 |
7 呋咱和苯并连四嗪化合物的合成工艺研究 | 第102-112页 |
7.1 前言 | 第102-103页 |
7.2 呋咱并连四嗪二氧化物的三步合成法 | 第103-107页 |
7.2.1 试剂与仪器 | 第103-104页 |
7.2.2 实验过程与步骤 | 第104-105页 |
7.2.3 最佳反应条件探索与讨论 | 第105-107页 |
7.3 苯并连四嗪硝基衍生物的合成工艺研究 | 第107-110页 |
7.3.1 试剂与仪器 | 第107页 |
7.3.2 实验过程与步骤 | 第107-108页 |
7.3.3 最佳反应条件探索与讨论 | 第108-110页 |
7.4 本章小结 | 第110页 |
参考文献 | 第110-112页 |
8 结论 | 第112-116页 |
8.1 主要结论 | 第112-114页 |
8.2 主要创新点 | 第114页 |
8.3 问题与展望 | 第114-116页 |
致谢 | 第116-117页 |
附录 | 第117-118页 |