| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第10-12页 |
| 1.2 镁锂合金的研究进展 | 第12页 |
| 1.3 高发射率材料及涂层的研究进展 | 第12-20页 |
| 1.3.1 高发射率材料的研究进展 | 第12-15页 |
| 1.3.2 高发射率涂层制备的研究现状 | 第15-20页 |
| 1.4 本课题的研究内容 | 第20-21页 |
| 1.4.1 微弧氧化过渡层的制备 | 第20页 |
| 1.4.2 高发射率粉体及涂层制备 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第21-29页 |
| 2.1 实验材料和化学药品 | 第21页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.1.2 化学试剂 | 第21页 |
| 2.2 实验设备及工艺流程 | 第21-25页 |
| 2.2.1 微弧氧化过渡层制备过程 | 第21-23页 |
| 2.2.2 高发射率粉体制备过程 | 第23-25页 |
| 2.3 膜层形貌及结构分析方法 | 第25-26页 |
| 2.3.1 膜层厚度测试 | 第25页 |
| 2.3.2 膜层粗糙度测试 | 第25页 |
| 2.3.3 扫描电镜及能谱（EDS）分析 | 第25-26页 |
| 2.3.4 物相分析 | 第26页 |
| 2.4 涂层性能分析方法 | 第26-29页 |
| 2.4.1 剪切强度测试 | 第26-27页 |
| 2.4.2 膜层/涂层抗热震能力测试 | 第27页 |
| 2.4.3 涂层/膜层发射率测试 | 第27-28页 |
| 2.4.4 涂层耐蚀性能评价 | 第28-29页 |
| 第3章 镁锂合金微弧氧化膜的制备及性能研究 | 第29-46页 |
| 3.1 镁锂合金微弧氧化电解液体系选择 | 第29-39页 |
| 3.1.1 主盐体系对膜层厚度的影响 | 第29-30页 |
| 3.1.2 主盐体系对膜层表面形貌及粗糙度的影响 | 第30-31页 |
| 3.1.3 主盐体系对膜层剪切强度的影响 | 第31-34页 |
| 3.1.4 微弧氧化电解液 Na_3PO_4-NaAlO_2的优化 | 第34-39页 |
| 3.2 镁锂合金微弧氧化电参数的优化 | 第39-40页 |
| 3.3 涂层制备工艺的确定 | 第40-45页 |
| 3.3.1 涂层制备方法确定 | 第40-42页 |
| 3.3.2 固化工艺的确定 | 第42-44页 |
| 3.3.3 涂层的抗热震能力测试 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 高发射率粉体合成及复合涂层制备 | 第46-71页 |
| 4.1 单组份材料的发射率比较 | 第46-48页 |
| 4.2 二元复合高发射率粉体制备和表征及涂层发射率测试 | 第48-55页 |
| 4.2.1 二元复合高发射率粉体制备及表征 | 第48-54页 |
| 4.2.2 二元复合涂层发射率测试 | 第54-55页 |
| 4.3 三元复合高发射率粉体制备和表征及涂层发射率测试 | 第55-63页 |
| 4.3.1 三元复合高发射率粉体制备及表征 | 第55-61页 |
| 4.3.2 三元复合涂层发射率测试 | 第61-62页 |
| 4.3.3 BN 对三元 Mn-Co-Cu 复合涂层的影响 | 第62-63页 |
| 4.4 四元复合高发射率粉体制备和表征及涂层发射率测试 | 第63-65页 |
| 4.4.1 四元复合高发射率粉体制备及表征 | 第63-64页 |
| 4.4.2 四元复合涂层发射率测试 | 第64-65页 |
| 4.5 复合涂层中粉料与胶粘剂比例的确定 | 第65-69页 |
| 4.5.1 不同配比下复合涂层厚度 | 第65-66页 |
| 4.5.2 不同配比下复合涂层的剪切强度 | 第66页 |
| 4.5.3 不同配比下复合涂层的发射率 | 第66-67页 |
| 4.5.4 涂层的耐蚀性能 | 第67-69页 |
| 4.6 复合涂层红外辐射机理分析 | 第69-70页 |
| 4.7 本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
