摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第8-9页 |
第一章 国内外相关领域的研究现状和发展 | 第9-25页 |
1.1 光催化技术的研究进展 | 第9-12页 |
1.1.1 光催化技术的概念 | 第9页 |
1.1.2 光催化技术的原理 | 第9-10页 |
1.1.3 光催化技术的应用 | 第10-12页 |
1.1.4 提高光催化效率的途径与方法 | 第12页 |
1.2 可见光光催化剂的研究进展 | 第12-15页 |
1.2.1 传统光催化剂 | 第12-13页 |
1.2.2 新型可见光光催化剂 | 第13-15页 |
1.3 g-C_3N_4的研究进展 | 第15-21页 |
1.3.1 g-C_3N_4的发展历史 | 第15-16页 |
1.3.2 g-C_3N_4的性质 | 第16-17页 |
1.3.3 改性g-C_3N_4的方法 | 第17-18页 |
1.3.4 g-C_3N_4的应用 | 第18-21页 |
1.4 层状材料的研究进展 | 第21-23页 |
1.4.1 常见的层状材料 | 第21-22页 |
1.4.2 层状材料的制备 | 第22页 |
1.4.3 层状材料的应用和发展 | 第22-23页 |
1.5 选题的依据、目的、意义和内容 | 第23-25页 |
1.5.1 选题的依据 | 第23页 |
1.5.2 研究的目的和意义 | 第23页 |
1.5.3 研究的内容 | 第23-25页 |
第二章 聚酰亚胺(PI)的制备及其光催化性能的研究 | 第25-41页 |
2.1 实验试剂、材料与仪器 | 第25-26页 |
2.1.1 实验试剂、材料 | 第25页 |
2.1.2 实验仪器 | 第25-26页 |
2.2 实验内容 | 第26-28页 |
2.2.1 Melem 和 PI 的制备 | 第26页 |
2.2.1.1 Melem的制备 | 第26页 |
2.2.1.2 PI的制备 | 第26页 |
2.2.2 PI的表征 | 第26-27页 |
2.2.3 电化学性能的研究 | 第27-28页 |
2.2.4 光学性能的研究 | 第28页 |
2.3 实验结果与讨论 | 第28-39页 |
2.3.1 晶体结构分析 | 第28-30页 |
2.3.2 形貌分析 | 第30-31页 |
2.3.3 光学性质分析 | 第31-32页 |
2.3.4 电化学分析 | 第32-34页 |
2.3.5 PI(1:1)与g-C_3N_4的空穴氧化能力 | 第34-35页 |
2.3.6 PI系列光催化性能的研究 | 第35-39页 |
2.4 小结 | 第39-41页 |
第三章 g-C_3N_4(s)/PI的制备及其光催化性能的研究 | 第41-53页 |
3.1 实验试剂、材料与仪器 | 第41-42页 |
3.1.1 实验试剂、材料 | 第41页 |
3.1.2 实验仪器 | 第41-42页 |
3.2 实验内容 | 第42-43页 |
3.2.1 g-C_3N_4(s)/PI光催化剂的制备 | 第42页 |
3.2.1.1 薄层g-C_3N_4(s)的制备 | 第42页 |
3.2.1.2 g-C_3N_4(s)/PI光催化剂的制备 | 第42页 |
3.2.2 g-C_3N_4(s)/PI光催化剂的表征 | 第42-43页 |
3.3 实验结果与讨论 | 第43-51页 |
3.3.1 g-C_3N_4(s)/PI晶型分析 | 第43-44页 |
3.3.2 g-C_3N_4/PI的光学性能 | 第44-45页 |
3.3.3 氮吸附(BET)分析 | 第45-46页 |
3.3.4 g-C_3N_4(s)/PI的形貌分析 | 第46-47页 |
3.3.5 g-C_3N_4(s)/PI红外(FTIR)分析 | 第47-48页 |
3.3.6 g-C_3N_4(s)/PI荧光(PL)分析 | 第48页 |
3.3.7 g-C_3N_4(s)/PI光催化性能 | 第48-51页 |
3.4 小结 | 第51-53页 |
第四章 结论 | 第53-54页 |
4.1 实验结论 | 第53页 |
4.2 实验不足之处及有待完善工作 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-60页 |
致谢 | 第60页 |