干摩擦条件下晶体硅材料摩擦磨损性能的试验研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 晶体硅摩擦学性能研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.1 宏观摩擦性能 | 第13-14页 |
| 1.2.2 微观摩擦性能 | 第14页 |
| 1.3 干滑动中影响摩擦磨损性能的主要因素 | 第14-17页 |
| 1.3.1 外部因素 | 第15-16页 |
| 1.3.2 表面处理 | 第16-17页 |
| 1.4 摩擦理论概述 | 第17-20页 |
| 1.4.1 摩擦理论 | 第17-19页 |
| 1.4.2 磨损机理 | 第19-20页 |
| 1.5 论文意义与内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第20页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第20-21页 |
| 1.5.3 研究技术路线框图 | 第21-22页 |
| 2 实验材料与方法 | 第22-32页 |
| 2.1 实验仪器及设备 | 第22-26页 |
| 2.1.1 UMT-2微摩擦磨损试验机 | 第22-24页 |
| 2.1.2 纳米划痕仪 | 第24-25页 |
| 2.1.3 白光干涉三维形貌仪 | 第25-26页 |
| 2.2 实验材料 | 第26-27页 |
| 2.3 实验方案 | 第27-29页 |
| 2.3.1 三种摩擦副条件下摩擦磨损试验方案 | 第27-28页 |
| 2.3.2 表面纹理摩擦磨损性能试验方案 | 第28页 |
| 2.3.3 低载条件下摩擦磨损性能试验方案 | 第28-29页 |
| 2.4 磨损参数测量 | 第29-32页 |
| 2.4.1 球的磨损体积的测量 | 第29-30页 |
| 2.4.2 硅片的磨损体积的测量 | 第30-32页 |
| 3 单晶硅表面的摩擦磨损试验 | 第32-62页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 单晶硅与氮化硅球对摩条件下摩擦磨损性能 | 第32-40页 |
| 3.2.1 摩擦性能分析 | 第32-37页 |
| 3.2.2 磨损性能分析 | 第37-40页 |
| 3.3 单晶硅与钢球对摩条件下摩擦磨损性能 | 第40-46页 |
| 3.3.1 摩擦性能分析 | 第40-44页 |
| 3.3.2 磨损性能分析 | 第44-46页 |
| 3.4 单晶硅与玛瑙球对摩条件下摩擦磨损性能 | 第46-53页 |
| 3.4.1 摩擦性能分析 | 第46-50页 |
| 3.4.2 磨损性能分析 | 第50-53页 |
| 3.5 三种摩擦副摩擦性能对比 | 第53-55页 |
| 3.6 表面纹理摩擦性能试验 | 第55-58页 |
| 3.7 低载划痕试验 | 第58-60页 |
| 3.8 本章总结 | 第60-62页 |
| 4 磨痕表面形貌特征分析 | 第62-72页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 转速对形貌特征影响 | 第62-66页 |
| 4.2.1 轮廓拟合 | 第62-64页 |
| 4.2.2 高度分布 | 第64-65页 |
| 4.2.3 截面粗糙度 | 第65-66页 |
| 4.3 载荷对形貌特征影响 | 第66-69页 |
| 4.3.1 轮廓拟合 | 第66-68页 |
| 4.3.2 高度分布 | 第68-69页 |
| 4.3.3 截面粗糙度 | 第69页 |
| 4.4 对偶材料对形貌特征影响 | 第69-71页 |
| 4.5 本章总结 | 第71-72页 |
| 5 单晶硅表面的摩损机理分析 | 第72-84页 |
| 5.1 引言 | 第72页 |
| 5.2 不同转速对磨损机理的影响 | 第72-76页 |
| 5.3 不同载荷对磨损机理的影响 | 第76-79页 |
| 5.4 不同对偶材料对磨损机理的影响 | 第79-82页 |
| 5.5 本章总结 | 第82-84页 |
| 6 总结与展望 | 第84-86页 |
| 6.1 全文工作总结 | 第84-85页 |
| 6.2 研究展望 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第90-94页 |
| 学位论文数据集 | 第94页 |
