| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 Al_2O_3陶瓷简介 | 第12-15页 |
| 1.2.1 Al_2O_3的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 Al_2O_3的应用领域 | 第13-15页 |
| 1.3 Al_2TiO_5陶瓷简介 | 第15-16页 |
| 1.3.1 Al_2TiO_5的晶体结构 | 第15-16页 |
| 1.3.2 Al_2TiO_5的应用 | 第16页 |
| 1.4 物理气相沉积(PVD)技术 | 第16-20页 |
| 1.4.1 物理气相沉积的基本步骤 | 第17-18页 |
| 1.4.2 物理气相沉积的分类及应用 | 第18-19页 |
| 1.4.3 PVD技术之磁控溅射简介 | 第19-20页 |
| 1.5 选题意义与研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验原理与样品制备 | 第21-33页 |
| 2.1 溅射基本原理 | 第21-25页 |
| 2.1.1 辉光放电现象 | 第21-23页 |
| 2.1.2 射频磁控溅射原理 | 第23-25页 |
| 2.2 薄膜生长 | 第25-27页 |
| 2.3 实验材料、设备及样品制备方法 | 第27-29页 |
| 2.3.1 实验材料和设备 | 第27-29页 |
| 2.3.2 样品制备 | 第29页 |
| 2.4 薄膜性能测试与表征 | 第29-33页 |
| 第3章 工艺参数对Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第33-51页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 溅射气压对Al_2O_3薄膜的影响 | 第33-41页 |
| 3.2.1 溅射气压对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第34-37页 |
| 3.2.2 不同溅射气压下Al_2O_3薄膜的XRD分析 | 第37-39页 |
| 3.2.3 不同溅射气压对Al_2O_3薄膜的结合力的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 沉积时间对氧化铝薄膜的影响 | 第41-46页 |
| 3.3.1 沉积时间对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.2 不同沉积时间下Al_2O_3薄膜的XRD分析 | 第43-44页 |
| 3.3.3 不同沉积时间对Al_2O_3薄膜的结合力的影响 | 第44-46页 |
| 3.4 溅射功率对氧化铝薄膜的影响 | 第46-51页 |
| 3.4.1 溅射功率对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第46-48页 |
| 3.4.2 不同射频功率下Al_2O_3薄膜的XRD分析 | 第48-49页 |
| 3.4.3 不同溅射功率对Al_2O_3薄膜的结合力的影响 | 第49-51页 |
| 第4章 工艺参数对Ti-Al-O复合氧化物薄膜性能的影响 | 第51-64页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 射频功率对Ti-Al-O复合氧化物薄膜的影响 | 第51-55页 |
| 4.2.1 射频功率对Ti-Al-O复合氧化物薄膜形貌的影响 | 第51-53页 |
| 4.2.2 不同射频功率下Ti-Al-O复合氧化物薄膜的XRD分析 | 第53-54页 |
| 4.2.3 不同射频功率对Ti-Al-O复合氧化物薄膜耐蚀性的影响 | 第54-55页 |
| 4.3 沉积时间对Ti-Al-O复合氧化物薄膜的影响 | 第55-59页 |
| 4.3.1 沉积时间对Ti-Al-O复合氧化物薄膜表面形貌的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.2 不同溅射温度下Ti-Al-O复合氧化物薄膜的XRD分析 | 第57-58页 |
| 4.3.3 不同沉积时间对Ti-Al-O复合氧化物薄膜耐蚀性的影响 | 第58-59页 |
| 4.4 溅射温度对Ti-Al-O复合氧化物薄膜的影响 | 第59-64页 |
| 4.4.1 溅射温度对Ti-Al-O复合氧化物薄膜形貌的影响 | 第60-61页 |
| 4.4.2 不同溅射温度下Ti-Al-O复合氧化物薄膜的XRD分析 | 第61-62页 |
| 4.4.3 不同射频温度对Ti-Al-O复合氧化物薄膜耐蚀性的影响 | 第62-64页 |
| 第5章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
