CoW磁性薄膜的微观结构表征及其磁各向异性
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 磁记录的发展历史 | 第12-15页 |
| 1.2 磁记录原理 | 第15-20页 |
| 1.2.1 水平磁记录(纵向磁记录) | 第15-17页 |
| 1.2.2 磁垂直记录 | 第17-18页 |
| 1.2.3 热辅助记录 | 第18-19页 |
| 1.2.4 图案记录 | 第19-20页 |
| 1.3 垂直记录介质概况 | 第20-23页 |
| 1.3.1 Co-Cr基合金介质 | 第21页 |
| 1.3.2 CoCr基含氧或氧化硅复合薄膜 | 第21-22页 |
| 1.3.3 Llo型FePt薄膜 | 第22-23页 |
| 1.4 磁垂直记录介质要求 | 第23-26页 |
| 1.4.1 微观组织的要求 | 第23-25页 |
| 1.4.2 垂直记录的取向控制 | 第25页 |
| 1.4.3 热稳定性的要求 | 第25-26页 |
| 1.5 本实验的研究目的及主要内容 | 第26-28页 |
| 第2章 实验方法 | 第28-38页 |
| 2.1 真空溅射镀膜原理 | 第28-30页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第28-29页 |
| 2.1.2 本文所用磁控溅射设备 | 第29-30页 |
| 2.2 薄膜样品的制备 | 第30-32页 |
| 2.3 薄膜分析与测试 | 第32-34页 |
| 2.3.1 薄膜厚度测量 | 第32-33页 |
| 2.3.2 薄膜成分分析 | 第33页 |
| 2.3.3 薄膜微观结构特征分析 | 第33页 |
| 2.3.4 薄膜磁性测量 | 第33-34页 |
| 2.4 部分薄膜微观结构分析方法介绍 | 第34-38页 |
| 2.4.1 晶格常数计算 | 第34-36页 |
| 2.4.2 原子堆垛层错密度计算 | 第36页 |
| 2.4.3 fcc相/hcp相体积比 | 第36-38页 |
| 第3章 Co-W基磁记录薄膜的微观结构表征 | 第38-62页 |
| 3.1 薄膜成分设计 | 第38-41页 |
| 3.2 薄膜制备 | 第41页 |
| 3.3 薄膜的晶体结构 | 第41-44页 |
| 3.4 薄膜的微观结构分析 | 第44-58页 |
| 3.4.1 晶体结构对称性确定(Φ扫描) | 第44-49页 |
| 3.4.2 c轴(结晶主轴)分散角 | 第49-50页 |
| 3.4.3 晶格常数 | 第50-54页 |
| 3.4.4 fcc相和hcp相体积比 | 第54-56页 |
| 3.4.5 原子堆垛层错密度 | 第56-58页 |
| 3.5 讨论 | 第58-59页 |
| 3.6 本章小结 | 第59-62页 |
| 第4章 Co-W薄膜的磁晶各向异性研究 | 第62-70页 |
| 4.1 Co-W薄膜的磁性能研究方法 | 第62-63页 |
| 4.1.1 磁晶各向异性的来源 | 第62页 |
| 4.1.2 磁晶各向异性常数的计算方法 | 第62-63页 |
| 4.2 薄膜的磁晶各向异性分析 | 第63-69页 |
| 4.2.1 W含量对薄膜饱和磁化强度的影响 | 第63-64页 |
| 4.2.2 W含量对磁晶各向异性Ku的影响 | 第64-65页 |
| 4.2.3 磁性层膜厚对磁晶各向异性Ku的影响 | 第65-69页 |
| 4.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
