聚变堆面壁材料钨中氢行为的模拟研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 前言 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 核能的介绍 | 第10-12页 |
| 1.2 聚变反应堆的介绍 | 第12-15页 |
| 1.3 聚变反应堆中等离子体与面壁材料的相互作用 | 第15-17页 |
| 1.4 聚变反应堆中面壁材料的性能要求及选取 | 第17-22页 |
| 1.4.1 面壁材料的性能要求 | 第17-18页 |
| 1.4.2 面壁材料的选取 | 第18-22页 |
| 1.5 选题来由及研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 理论计算基础及软件包介绍 | 第23-45页 |
| 2.1 理论计算基础 | 第23-41页 |
| 2.1.1 波函数与薛定谔方程 | 第23-26页 |
| 2.1.2 密度泛函理论(DFT) | 第26-34页 |
| 2.1.3 密度泛函理论的计算方法 | 第34-41页 |
| 2.2 第一性原理 | 第41-42页 |
| 2.3 软件包介绍 | 第42-43页 |
| 2.3.1 Materials Studio | 第42-43页 |
| 2.3.2 Vasp | 第43页 |
| 2.4 小结 | 第43-45页 |
| 第三章 钨-碳混合层对氢的捕获 | 第45-63页 |
| 3.1 碳原子在钨晶体中的溶解行为 | 第46-54页 |
| 3.1.1 钨的晶体结构 | 第46-47页 |
| 3.1.2 碳原子在完美钨晶体中的溶解 | 第47页 |
| 3.1.3 碳原子在含空位的钨晶体中的溶解 | 第47-52页 |
| 3.1.4 碳原子在钨晶体表面的溶解扩散 | 第52-54页 |
| 3.2 氢在钨晶体C-V复合体中的滞留 | 第54-60页 |
| 3.2.1 氢与钨晶体中C-V复合体的结合情况 | 第54-57页 |
| 3.2.2 氢、碳原子与体系中邻近原子的成键特点 | 第57-60页 |
| 3.3 讨论 | 第60-61页 |
| 3.4 结论 | 第61-63页 |
| 第四章 氢、氦对钨材料中裂纹扩展的影响 | 第63-79页 |
| 4.1 纯钨材料中裂纹的扩展 | 第64-66页 |
| 4.1.1 裂纹的构建 | 第64-65页 |
| 4.1.2 裂纹的扩展 | 第65-66页 |
| 4.2 氦杂质对裂纹扩展的影响 | 第66页 |
| 4.3 氢杂质对裂纹扩展的影响 | 第66-78页 |
| 4.3.1 氢在裂纹尖端的溶解 | 第67页 |
| 4.3.2 氢对裂纹扩展的影响 | 第67-78页 |
| 4.3.3 裂纹体系中原子间的电荷转移分析 | 第78页 |
| 4.4 结论 | 第78-79页 |
| 第五章 总结 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 在校期间发表论文列表 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
