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Tb3Ga5O12晶体生长工艺研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
第一章 绪论第7-21页
    1.1 引言第7页
    1.2 磁光效应第7-9页
        1.2.1 法拉第(Faraday)效应第7-8页
        1.2.2 Kerr效应第8-9页
        1.2.3 科顿-穆顿效应第9页
        1.2.4 塞曼效应第9页
    1.3 磁光材料的分类第9-17页
        1.3.1 磁光玻璃第9-12页
        1.3.2 磁光晶体第12-16页
        1.3.3 磁光陶瓷第16页
        1.3.4 磁光薄膜第16-17页
    1.4 磁光晶体的应用第17-19页
        1.4.1 光隔离器第17页
        1.4.2 光纤电流传感器第17-18页
        1.4.3 激光陀螺第18-19页
    1.5 国内外研究现状第19页
    1.6 本文主要的研究内容第19-21页
第二章 TGG粉体制备及其表征第21-33页
    2.1 液相共沉淀法制备TGG粉体及表征第21-25页
        2.1.1 化学试剂第21页
        2.1.2 实验仪器第21-22页
        2.1.3 测试设备第22页
        2.1.4 样品制备第22-25页
    2.2 共沉淀法样品测试第25-30页
        2.2.1 XRD测试分析第25-28页
        2.2.2 红外光谱分析第28页
        2.2.3 热重-示量差热分析第28-29页
        2.2.4 扫描电镜第29页
        2.2.5 拉曼光谱分析第29-30页
    2.3 高温固相烧结法制备TGG粉体及表征第30-31页
        2.3.1 实验试剂第30页
        2.3.2 测试设备第30-31页
        2.3.3 样品制备第31页
    2.4 样品测试第31页
    2.5 本章小结第31-33页
第三章 TGG晶体生长工艺研究第33-43页
    3.1 提拉法第33-34页
        3.1.1 生长原理第33页
        3.1.2 晶体生长装置第33页
        3.1.3 影响因素第33-34页
        3.1.4 Cz法生长晶体的优点第34页
    3.2 晶体生长传输动力学第34-35页
        3.2.1 热量传输第34-35页
        3.2.2 质量传输第35页
        3.2.3 动量传输第35页
    3.3 晶体生长实验第35-42页
        3.3.1 原料的制备第35-36页
        3.3.2 原料的压制第36页
        3.3.3 晶体生长设备装置及工艺参数第36-37页
        3.3.4 工艺设计第37-39页
        3.3.5 晶体生长过程第39-42页
    3.4 本章小结第42-43页
第四章 晶体的测试第43-50页
    4.1 XRD测试第43-44页
        4.1.1 挥发物第43页
        4.1.2 坩埚底料第43-44页
    4.2 透过率第44页
    4.3 吸收率第44-45页
    4.4 拉曼散射光谱第45-46页
    4.5 费尔德常数测试第46-48页
    4.6 静态消光比分析第48-49页
    4.7 光学均匀性第49页
    4.8 本章小结第49-50页
第五章 结论第50-52页
致谢第52-53页
参考文献第53-54页

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