离子束刻蚀制作中阶梯光栅研究
| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 课题研究背景及意义 | 第9-13页 |
| 1.3 中阶梯光栅国内外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4 本论文的研究工作 | 第14-15页 |
| 第二章 离子束刻蚀技术及其图形演化过程 | 第15-24页 |
| 2.1 离子束刻蚀技术简介 | 第15-19页 |
| 2.1.1 离子源系统 | 第15-17页 |
| 2.1.2 离子束刻蚀特性研究 | 第17-19页 |
| 2.2 刻蚀图形演化过程 | 第19-23页 |
| 2.2.1 线段算法原理简介 | 第19-20页 |
| 2.2.2 高级线段算法流程及关键因素 | 第20-23页 |
| 2.3 小结 | 第23-24页 |
| 第三章 中阶梯光栅的制作 | 第24-41页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 同质掩模法制作闪耀光栅工艺流程 | 第24-26页 |
| 3.3 同质掩模设计的理论分析 | 第26-29页 |
| 3.4 光刻胶掩模的制作 | 第29-31页 |
| 3.5 同质掩模的制作 | 第31-38页 |
| 3.5.1 光刻胶、铬双层掩模的制作 | 第31-36页 |
| 3.5.2 RIE刻蚀制作同质掩模 | 第36-38页 |
| 3.6 倾斜刻蚀制作中阶梯光栅 | 第38-40页 |
| 3.7 小结 | 第40-41页 |
| 第四章 衍射效率分析 | 第41-54页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 FDTD原理介绍 | 第41-44页 |
| 4.2.1 FDTD简介 | 第41-42页 |
| 4.2.2 FDTD基本原理 | 第42-44页 |
| 4.3 理想槽形与实际槽形衍射效率的计算 | 第44-49页 |
| 4.4 实际槽形衍射效率的测量 | 第49-53页 |
| 4.5 小结 | 第53-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 总结 | 第54-55页 |
| 5.2 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
