| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 光学薄膜介绍 | 第9-12页 |
| 1.1.1 光学薄膜的发展历史 | 第9-10页 |
| 1.1.2 光学薄膜的分类 | 第10-12页 |
| 1.2 减反射薄膜的研究现状与应用 | 第12-15页 |
| 1.2.1 减反射薄膜的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.2 减反射薄膜的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 背景介绍及论文的主要内容 | 第15-16页 |
| 1.3.1 选题的背景 | 第15-16页 |
| 1.3.2 论文的主要内容 | 第16页 |
| 1.4 论文结构安排 | 第16-19页 |
| 第二章 减反射薄膜的理论基础 | 第19-31页 |
| 2.1 光的电磁理论 | 第19-24页 |
| 2.1.1 麦克斯韦方程 | 第19-20页 |
| 2.1.2 光的波动函数 | 第20-21页 |
| 2.1.3 介质的折射率 | 第21-22页 |
| 2.1.4 界面处的反射 | 第22-24页 |
| 2.2 减反射薄膜的设计理论 | 第24-29页 |
| 2.2.1 单层减反射薄膜 | 第24-25页 |
| 2.2.2 多层减反射薄膜 | 第25-27页 |
| 2.2.3 介质存在吸收时的减反射薄膜 | 第27-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 紫外减反射薄膜的设计和模拟 | 第31-45页 |
| 3.1 模拟软件简介 | 第31-33页 |
| 3.2 紫外减反射薄膜结构的设计 | 第33-43页 |
| 3.2.1 两层的紫外减反射薄膜 | 第33-39页 |
| 3.2.2 含YAG：Ce的紫外减反射薄膜 | 第39-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 紫外减反射薄膜的制备 | 第45-55页 |
| 4.1 薄膜制备方案 | 第45-46页 |
| 4.2 薄膜生长原理 | 第46-48页 |
| 4.2.1 表面吸附 | 第46页 |
| 4.2.2 表面成核 | 第46-47页 |
| 4.2.3 薄膜生长 | 第47-48页 |
| 4.3 薄膜制备方法 | 第48-51页 |
| 4.3.1 电子束蒸发 | 第48-49页 |
| 4.3.2 磁控溅射 | 第49页 |
| 4.3.3 斜角气相沉积方法 | 第49-51页 |
| 4.4 薄膜制备流程 | 第51-52页 |
| 4.4.1 TiO_2致密膜层的制备 | 第51页 |
| 4.4.2 YAG：Ce膜层的制备 | 第51-52页 |
| 4.4.3 两层SiO_2纳米柱的制备 | 第52页 |
| 4.5 测试方法 | 第52-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 紫外减反射薄膜的性能分析 | 第55-65页 |
| 5.1 SiO_2纳米柱状薄膜表征及分析 | 第55-56页 |
| 5.1.1 SiO_2纳米柱状减反射薄膜的结构 | 第55页 |
| 5.1.2 SiO_2纳米柱状薄膜反射率分析 | 第55-56页 |
| 5.2 YAG：Ce薄膜的光谱下转换特性分析 | 第56-59页 |
| 5.2.1 退火对YAG：Ce薄膜形貌的影响 | 第56-57页 |
| 5.2.2 YAG：Ce薄膜退火后物相分析 | 第57页 |
| 5.2.3 YAG：Ce薄膜退火后的激发光谱和发射光谱 | 第57-58页 |
| 5.2.4 YAG：Ce薄膜退火后的反射率 | 第58-59页 |
| 5.3 含YAG：Ce的四层紫外减反射薄膜 | 第59-63页 |
| 5.3.1 紫外减反射薄膜结构的表征 | 第59-60页 |
| 5.3.2 紫外减反射薄膜性能的分析 | 第60-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 论文工作内容总结 | 第65页 |
| 6.2 存在的问题与展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 作者简介 | 第73页 |