| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第8-10页 |
| 1.2 课题研究的意义和目的 | 第10-11页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第11-12页 |
| 2 生物传感器简介 | 第12-19页 |
| 2.1 生物传感器 | 第12-13页 |
| 2.2 生物传感器的分类 | 第13-14页 |
| 2.3 生物传感器的应用 | 第14-16页 |
| 2.3.1 在医学领域中的应用 | 第14-15页 |
| 2.3.2 在食品工业中的应用 | 第15页 |
| 2.3.3 在环境检测中的应用 | 第15-16页 |
| 2.4 半导体生物传感器 | 第16-17页 |
| 2.4.1 MOS场效应晶体管生物传感器 | 第16-17页 |
| 2.4.2 高介电常数栅介质材料 | 第17页 |
| 2.5 本章小结 | 第17-19页 |
| 3 Si衬底上纳米MgO薄膜的制备及表征 | 第19-23页 |
| 3.1 磁控溅射技术的基本原理 | 第19-20页 |
| 3.2 磁控溅射纳米MgO薄膜及其表征 | 第20-22页 |
| 3.2.1 主要实验仪器简介及实验条件 | 第20-21页 |
| 3.2.2 纳米MgO薄膜制备过程 | 第21-22页 |
| 3.2.3 实验结果-薄膜表征 | 第22页 |
| 3.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 4 膜厚分布理论模拟和实验分析 | 第23-27页 |
| 4.1 膜厚分布的物理模型 | 第23-24页 |
| 4.2 实验结果验证理论模型的详细分析 | 第24-26页 |
| 4.2.1 MgO薄膜理论厚度分布 | 第24-25页 |
| 4.2.2 MgO薄膜实验厚度分布 | 第25页 |
| 4.2.3 实验结果对物理模型的验证 | 第25-26页 |
| 4.3 本章小结 | 第26-27页 |
| 5 工艺参数对沉积速率的影响 | 第27-33页 |
| 5.1 溅射功率对薄膜沉积速率影响的理论分析 | 第27页 |
| 5.2 Ar气流量对薄膜沉积速率影响的理论分析 | 第27页 |
| 5.3 靶基距对薄膜沉积速率影响的理论分析 | 第27-28页 |
| 5.4 溅射气压对薄膜沉积速率的影响 | 第28-30页 |
| 5.4.1 高溅射气压对薄膜沉积速率影响的理论分析 | 第28页 |
| 5.4.2 溅射气压对薄膜沉积速率影响实验结果分析 | 第28-30页 |
| 5.5 衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第30-32页 |
| 5.5.1 衬底温度对薄膜沉积速率影响的理论分析 | 第30-31页 |
| 5.5.2 衬底温度对薄膜沉积速率影响实验结果分析 | 第31-32页 |
| 5.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 结论 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-37页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第37-38页 |
| 致谢 | 第38-39页 |
