| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·磁场热处理的机制和磁场热处理的发展应用 | 第9-13页 |
| ·磁场热处理的机制 | 第9-11页 |
| ·磁场热处理的发展应用 | 第11-13页 |
| ·真空磁场热处理设备 | 第13-16页 |
| ·真空磁场热处理设备的组成 | 第13-15页 |
| ·实验步骤 | 第15-16页 |
| ·本论文的主要内容 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 样品的测试方法和表征手段 | 第19-25页 |
| ·薄膜结构的表征:X-ray衍射(XRD) | 第19-21页 |
| ·薄膜厚度和成分的表征:扫描电子显微镜(SEM)和EDS | 第21-23页 |
| ·磁性能的表征:振动样品磁强计(VSM) | 第23页 |
| ·动态磁性的表征:矢量网络分析仪 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-25页 |
| 第三章 电镀法制备FeNi合金薄膜和磁场热处理对其性能的影响 | 第25-39页 |
| ·电镀法制备FeNi合金薄膜 | 第25-26页 |
| ·电镀法简述 | 第25页 |
| ·电镀法制备软磁薄膜材料 | 第25-26页 |
| ·实验原料和仪器 | 第26页 |
| ·FeNi合金薄膜的制备和基本磁性 | 第26-30页 |
| ·镀层的结构和成份分析 | 第26-29页 |
| ·制备的FeNi薄膜的磁性能 | 第29页 |
| ·制备的FeNi合金薄膜的高频性能 | 第29-30页 |
| ·FeNi合金薄膜的真空磁场热处理 | 第30-37页 |
| ·实验条件和实验设计 | 第30页 |
| ·对沉积电压为0.6 V的样品的磁场热处理 | 第30-32页 |
| ·对沉积电压为1.0 V的样品进行磁场热处理 | 第32-34页 |
| ·对沉积电压为0.6 V加外场800 Oe的样品进行磁场热处理 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第四章 Sol-gel法制备(NiZn)Fe_2O_4和磁场热处理对其的影响 | 第39-55页 |
| ·溶胶凝胶旋转涂层法制备NiZn铁氧体薄膜 | 第39-41页 |
| ·NiZn铁氧体的晶体结构和磁学性能 | 第39-40页 |
| ·溶胶凝胶旋转涂层法简述 | 第40-41页 |
| ·实验原料和仪器 | 第41-42页 |
| ·实验原料 | 第41-42页 |
| ·实验设备和器材 | 第42页 |
| ·NiZn铁氧体的制备 | 第42页 |
| ·制备NiZn铁氧体的结果和分析 | 第42-50页 |
| ·溶胶浓度和甩胶工艺对薄膜质量的影响 | 第42-44页 |
| ·退火温度对薄膜结构和磁性的影响 | 第44-50页 |
| ·NiZn铁氧体薄膜的磁场热处理 | 第50-52页 |
| ·磁场热处理的条件 | 第50页 |
| ·结果和分析 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 硕士在读期间发表文章 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
