| 摘要 | 第10-13页 |
| Abstract | 第13-16页 |
| 符号缩写 | 第17-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-42页 |
| 1.1 概述 | 第18-19页 |
| 1.2 氧化石墨烯的制备 | 第19-20页 |
| 1.3 氧化石墨烯的结构 | 第20-22页 |
| 1.3.1 早期模型 | 第20页 |
| 1.3.2 Lerf-Klinowski模型 | 第20-22页 |
| 1.3.3 氧化碎片模型 | 第22页 |
| 1.4 氧化石墨烯的性质与应用 | 第22-25页 |
| 1.4.1 氧化石墨烯的电学性质及应用 | 第23-24页 |
| 1.4.2 氧化石墨烯的光学性质及应用 | 第24-25页 |
| 1.5 氧化石墨烯的功能化修饰 | 第25-28页 |
| 1.5.1 共价键修饰 | 第26-27页 |
| 1.5.2 离子键修饰 | 第27-28页 |
| 1.5.3 π-π作用修饰 | 第28页 |
| 1.6 功能化氧化石墨烯与共轭聚合物的相互作用 | 第28-33页 |
| 1.6.1 共轭聚合物简介 | 第28-30页 |
| 1.6.2 功能化氧化石墨烯/共轭聚合物复合材料的制备及应用 | 第30-31页 |
| 1.6.3 功能化氧化石墨烯与共轭聚合物的界面性质 | 第31-33页 |
| 1.7 研究课题的选取 | 第33-35页 |
| 本章参考文献 | 第35-42页 |
| 第二章 实验介绍 | 第42-62页 |
| 2.1 实验材料 | 第42-43页 |
| 2.1.1 固体材料 | 第42-43页 |
| 2.1.2 液体材料 | 第43页 |
| 2.1.3 气体材料 | 第43页 |
| 2.2 制备仪器 | 第43-46页 |
| 2.2.1 分散设备 | 第43-44页 |
| 2.2.2 制膜设备 | 第44-45页 |
| 2.2.3 有机光电器件制备系统 | 第45-46页 |
| 2.3 测试仪器 | 第46-60页 |
| 2.3.1 形貌特性表征 | 第46-47页 |
| 2.3.2 光学特性表征 | 第47-50页 |
| 2.3.3 光致激发动力学表征 | 第50-55页 |
| 2.3.4 成分特性表征 | 第55-56页 |
| 2.3.5 结构特性表征 | 第56-58页 |
| 2.3.6 器件性能表征 | 第58-60页 |
| 本章参考文献 | 第60-62页 |
| 第三章 氧化石墨烯的离子键修饰 | 第62-84页 |
| 3.1 引言 | 第62-63页 |
| 3.2 实验部分 | 第63-65页 |
| 3.2.1 实验用品 | 第63页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第63-64页 |
| 3.2.3 测试与表征 | 第64-65页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第65-80页 |
| 3.3.1 相转移条件的确定 | 第65-68页 |
| 3.3.2 相转移流程 | 第68-70页 |
| 3.3.3 相转移模型 | 第70-72页 |
| 3.3.4 模型验证 | 第72-74页 |
| 3.3.5 功能化氧化石墨烯的性质 | 第74-77页 |
| 3.3.6 功能化氧化石墨烯与共轭聚合物的相互作用 | 第77-80页 |
| 3.4 本章小结 | 第80-81页 |
| 本章参考文献 | 第81-84页 |
| 第四章 离子键功能化氧化石墨烯的可控还原 | 第84-108页 |
| 4.1 引言 | 第84-85页 |
| 4.2 实验部分 | 第85-87页 |
| 4.2.1 实验用品 | 第85页 |
| 4.2.2 样品制备 | 第85-86页 |
| 4.2.3 测试与表征 | 第86-87页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第87-103页 |
| 4.3.1 DDAB-GO的还原流程 | 第88-89页 |
| 4.3.2 不同还原程度DDAB-GO/ rGO能级结构的测定 | 第89-95页 |
| 4.3.3 DDAB-GO与DDAB-rGO的性质 | 第95-97页 |
| 4.3.4 DDAB-GO/rGO与共轭聚合物的相互作用 | 第97-102页 |
| 4.3.5 共轭聚合物与DDAB-GO/rGO之间的电荷转移模型 | 第102-103页 |
| 4.4 本章小结 | 第103-104页 |
| 本章参考文献 | 第104-108页 |
| 第五章 离子键功能化氧化石墨烯的共价键修饰 | 第108-130页 |
| 5.1 引言 | 第108-109页 |
| 5.2 实验部分 | 第109-112页 |
| 5.2.1 实验用品 | 第109页 |
| 5.2.2 样品制备 | 第109-110页 |
| 5.2.3 测试与表征 | 第110-112页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第112-125页 |
| 5.3.1 共价键修饰有效性的验证 | 第112-116页 |
| 5.3.2 DDAB-GO与CI-DDAB-GO的性质对比 | 第116-118页 |
| 5.3.3 DDAB-GO、CI-DDAB-GO掺入共轭聚合物薄膜的性质 | 第118-123页 |
| 5.3.4 基于DDAB-GO、CI-DDAB-GO掺入共轭聚合物薄膜的光电二极管 | 第123-125页 |
| 5.4 本章小结 | 第125-127页 |
| 本章参考文献 | 第127-130页 |
| 第六章 氧化石墨烯的π-π作用修饰 | 第130-152页 |
| 6.1 引言 | 第130-131页 |
| 6.2 实验部分 | 第131-134页 |
| 6.2.1 实验用品 | 第131页 |
| 6.2.2 样品制备 | 第131-133页 |
| 6.2.3 测试与表征 | 第133-134页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第134-148页 |
| 6.3.1 P3HT辅助的氧化石墨烯相转移流程 | 第134-136页 |
| 6.3.2 π-π作用修饰有效性的验证 | 第136-140页 |
| 6.3.3 P-GO掺入对P3HT: PCBM共混薄膜的影响 | 第140-145页 |
| 6.3.4 P-GO掺入的P3HT: PCBM共混薄膜的结构模型 | 第145-146页 |
| 6.3.5 P-GO掺入对P3HT: PCBM光伏器件性能的影响 | 第146-148页 |
| 6.4 本章小结 | 第148-149页 |
| 本章参考文献 | 第149-152页 |
| 第七章 总结与展望 | 第152-157页 |
| 7.1 结论 | 第152-154页 |
| 7.2 创新点 | 第154-155页 |
| 7.3 展望 | 第155-157页 |
| 致谢 | 第157-159页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文 | 第159-161页 |
| Paper 1 | 第161-165页 |
| Paper 2 | 第165-175页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第175页 |
