| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| 1.1 课题来源及意义 | 第8-13页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.1.2 课题研究背景和意义 | 第8-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-18页 |
| 1.2.1 非球面磁流变抛光研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.2 非球面磁流变抛光算法研究现状与问题 | 第16-18页 |
| 1.3 本论文主要研究目的、内容及研究思路 | 第18-21页 |
| 1.3.1 论文研究目的 | 第18页 |
| 1.3.2 论文主要内容 | 第18-19页 |
| 1.3.3 论文研究思路 | 第19-21页 |
| 第二章 非球面磁流变抛光去除函数演绎获取算法 | 第21-39页 |
| 2.1 非球面磁流变抛光去除函数演绎获取的技术思路 | 第21-22页 |
| 2.2 去除函数演绎原理分析与实验验证 | 第22-29页 |
| 2.2.1 去除函数演绎原理分析 | 第22-26页 |
| 2.2.2 实验验证 | 第26-29页 |
| 2.3 去除函数演绎获取算法 | 第29-35页 |
| 2.3.1 变浸深平面抛光去除函数演绎算法 | 第29-33页 |
| 2.3.2 变浸深曲面抛光去除函数演绎算法 | 第33-35页 |
| 2.4 去除函数演绎获取算法的实验验证 | 第35-37页 |
| 2.5 本章总结 | 第37-39页 |
| 第三章 非球面磁流变抛光多轴联动位置量求解算法 | 第39-56页 |
| 3.1 多轴联动位置量求解算法的运动学基础 | 第39-41页 |
| 3.1.1 低序体理论 | 第39页 |
| 3.1.2 齐次变换方法 | 第39-41页 |
| 3.2 非球面磁流变抛光机床通用位置量求解模型 | 第41-45页 |
| 3.3 PKC-1000Q2型磁流变抛光机床位置量求解 | 第45-52页 |
| 3.3.1 低序体模型 | 第45-47页 |
| 3.3.2 磁流变机床的体间齐次变换关系 | 第47-49页 |
| 3.3.3 位置量的解算 | 第49-51页 |
| 3.3.4 非线性误差评估 | 第51-52页 |
| 3.4 多轴联动位置量求解算法验证 | 第52-54页 |
| 3.5 本章总结 | 第54-56页 |
| 第四章 非球面磁流变抛光工艺算法及实验验证 | 第56-71页 |
| 4.1 非球面磁流变抛光面形控制工艺过程分析 | 第56-58页 |
| 4.2 非球面抛光的轨迹规划算法 | 第58-59页 |
| 4.3 非球面抛光的驻留时间求解算法 | 第59-62页 |
| 4.3.1 驻留时间求解算法分析 | 第59-60页 |
| 4.3.2 非球面驻留时间求解算法 | 第60-62页 |
| 4.4 非球面磁流变抛光定位误差补偿算法与仿真 | 第62-66页 |
| 4.4.1 定位误差补偿算法 | 第62-65页 |
| 4.4.2 定位误差补偿算法仿真 | 第65-66页 |
| 4.5 非球面磁流变抛光算法验证实验 | 第66-70页 |
| 4.6 本章总结 | 第70-71页 |
| 第五章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 全文总结 | 第71页 |
| 5.2 技术创新或进步点 | 第71-72页 |
| 5.3 研究展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78页 |
| 附录B 攻读硕士学位期间参加的学术活动 | 第78页 |