基于磁流变抛光的中频误差控制工艺算法与策略
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 课题来源与研究背景 | 第8-11页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.1.2 研究背景 | 第8-11页 |
| 1.2 磁流变抛光技术概述 | 第11-13页 |
| 1.2.1 磁流变抛光原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 抛光工艺对中频误差的影响因素 | 第12-13页 |
| 1.3 中频误差控制的国内外现状 | 第13-16页 |
| 1.3.1 国外发展现状 | 第13-14页 |
| 1.3.2 国内发展现状 | 第14-15页 |
| 1.3.3 中频误差控制存在的问题 | 第15-16页 |
| 1.4 论文研究目的与意义 | 第16页 |
| 1.5 论文研究思路及主要研究内容 | 第16-19页 |
| 1.5.1 论文研究思路 | 第16-17页 |
| 1.5.2 论文主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 中频误差分析方法研究 | 第19-27页 |
| 2.1 光学表面面形误差常见的评价参数 | 第19-20页 |
| 2.2 中频误差的表征 | 第20-22页 |
| 2.2.1 功率谱密度函数的定义 | 第20-21页 |
| 2.2.2 功率谱密度函数应用及不足 | 第21-22页 |
| 2.3 中频误差分析软件开发 | 第22-26页 |
| 2.3.1 整体结构设计 | 第23页 |
| 2.3.2 功能分析 | 第23-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 去除函数对中频误差影响规律及仿真分析 | 第27-38页 |
| 3.1 去除函数卷积模型 | 第27-28页 |
| 3.2 去除函数的选取 | 第28-30页 |
| 3.3 多去除函数组合分层加工 | 第30页 |
| 3.4 去除函数仿真分析 | 第30-37页 |
| 3.4.1 去除函数形态对加工面形影响仿真分析 | 第30-34页 |
| 3.4.2 不同浸深抛光斑修形能力仿真分析 | 第34-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 抛光轨迹对中频误差的影响规律及优化算法 | 第38-52页 |
| 4.1 抛光轨迹规划算法 | 第38-40页 |
| 4.2 抛光轨迹对中频误差的影响 | 第40-44页 |
| 4.2.1 规则轨迹的特征频率 | 第40-42页 |
| 4.2.2 伪随机轨迹实验 | 第42-44页 |
| 4.3 基于聚类离散思想的自适应光栅轨迹 | 第44-47页 |
| 4.3.1 面形梯度对确定性抛光的影响 | 第45页 |
| 4.3.2 聚类思想 | 第45-46页 |
| 4.3.3 算法实现 | 第46-47页 |
| 4.4 实验结果 | 第47-51页 |
| 4.4.1 仿真分析 | 第47-48页 |
| 4.4.2 工艺实验 | 第48-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 驻留时间对中频误差影响规律及优化算法 | 第52-64页 |
| 5.1 驻留时间求解理论基础 | 第52-53页 |
| 5.2 驻留时间矩阵算法分析 | 第53-54页 |
| 5.3 驻留时间频谱滤波方法控制中频误差 | 第54-55页 |
| 5.4 实验结果 | 第55-63页 |
| 5.4.1 仿真分析 | 第55-59页 |
| 5.4.2 工艺实验 | 第59-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 全文总结 | 第64页 |
| 6.2 技术进步点 | 第64-65页 |
| 6.3 研究展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第70页 |
| 附录B 攻读硕士学位期间参加的学术活动 | 第70页 |
