酸化—好氧工艺处理硅生产废水的应用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| ·课题背景及研究的目的和意义 | 第8-10页 |
| ·硅生产废水的产生及其危害 | 第10-13页 |
| ·晶体硅生产流程及其废水的产生 | 第10-11页 |
| ·硅生产废水中污染成分的危害 | 第11-13页 |
| ·硅生产废水常用处理方法 | 第13-21页 |
| ·F-的去除 | 第13-16页 |
| ·乳酸的处理 | 第16-21页 |
| ·工程建设背景及主要研究内容 | 第21-22页 |
| ·工程建设背景 | 第21-22页 |
| 第2章 处理工艺设计 | 第22-35页 |
| ·设计处理水质水量 | 第22-24页 |
| ·设计水量 | 第22页 |
| ·设计水质 | 第22-23页 |
| ·水质分析 | 第23-24页 |
| ·设计工艺流程 | 第24-25页 |
| ·主要处理单元工艺分析 | 第25-30页 |
| ·调节池 | 第25页 |
| ·预处理单元 | 第25-28页 |
| ·好氧处理单元 | 第28-29页 |
| ·污泥处理单元 | 第29-30页 |
| ·处理单元主要设计参数 | 第30-34页 |
| ·水解酸化池的设计 | 第30-31页 |
| ·接触氧化池设计 | 第31-32页 |
| ·其他处理单元设计参数 | 第32-33页 |
| ·系统流程图 | 第33页 |
| ·监测项目及监测方法 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 污水处理系统的启动与运行 | 第35-55页 |
| ·污水处理站概况 | 第35-36页 |
| ·启动前的准备工作 | 第36-37页 |
| ·启动前进水水质的分析 | 第37-38页 |
| ·进水水质的测定 | 第37-38页 |
| ·进水水质分析 | 第38页 |
| ·混凝处理单元的启动 | 第38-42页 |
| ·混凝实验 | 第39-40页 |
| ·混凝启动存在的问题 | 第40-41页 |
| ·絮凝池改造调试 | 第41-42页 |
| ·SS 的去除对COD 的影响 | 第42页 |
| ·生物处理系统的启动 | 第42-50页 |
| ·水解酸化池的启动 | 第43-47页 |
| ·接触氧化池的启动 | 第47-50页 |
| ·系统稳定运行结果 | 第50-53页 |
| ·COD 去除率 | 第50-51页 |
| ·BOD 去除率 | 第51页 |
| ·SS 去除率 | 第51-52页 |
| ·pH 值的调整 | 第52页 |
| ·运行成本 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第4章 主要影响因素的研究 | 第55-62页 |
| ·停留时间对水解酸化的影响 | 第55-57页 |
| ·污泥浓度对于水解酸化的影响 | 第57-58页 |
| ·pH 值对于水解酸化的影响 | 第58-59页 |
| ·停留时间对接触氧化的影响 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论与建议 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
