| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| ·纳米多层膜概述 | 第13-19页 |
| ·纳米薄膜分类 | 第13页 |
| ·金属多层膜的研究概述 | 第13-14页 |
| ·硅表面金属薄膜制备的研究现状 | 第14-16页 |
| ·金属多层膜的性能 | 第16-19页 |
| ·喷射电沉积法制备纳米多层膜 | 第19-22页 |
| ·纳米多层膜的制备方法 | 第19-20页 |
| ·喷射电沉积制备纳米多层膜的研究现状 | 第20-22页 |
| ·本文选题的目的、意义与主要研究内容 | 第22-25页 |
| ·本文的研究目的、意义 | 第22-23页 |
| ·本文的主要内容 | 第23-25页 |
| 第二章 Si 表面喷射电沉积多层膜的工艺研究 | 第25-35页 |
| ·制备多层膜的机理分析 | 第25-28页 |
| ·装置设计 | 第25-27页 |
| ·制备多层膜的影响因素分析 | 第27-28页 |
| ·工艺设计 | 第28-29页 |
| ·镀液的配置与工件的前处理 | 第28-29页 |
| ·实验方案设计 | 第29页 |
| ·研究方法 | 第29-34页 |
| ·表面形貌与 XRD 分析 | 第29-30页 |
| ·显微硬度的测量 | 第30-31页 |
| ·耐腐蚀性能分析 | 第31-32页 |
| ·结合力分析 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 Si 表面喷射电沉积多层膜结合力的研究 | 第35-42页 |
| ·薄膜在基底的附着方式和附着机理 | 第35-37页 |
| ·薄膜与基底的附着方式 | 第35-36页 |
| ·薄膜在基底的附着机理 | 第36-37页 |
| ·提高膜基结合力的方法 | 第37-38页 |
| ·多层膜与 Si 基底结合力的研究 | 第38-41页 |
| ·不同前处理对膜基结合力的影响 | 第38-40页 |
| ·多层膜与单层膜膜基结合力对比 | 第40页 |
| ·划痕方向对膜基结合力的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 喷嘴参数的选择及实验验证 | 第42-53页 |
| ·ANSYS FLOTRAN 流场分析概述 | 第42-44页 |
| ·流场分析的基本流程 | 第42页 |
| ·流体状态的确定 | 第42-43页 |
| ·流体运动的模型 | 第43-44页 |
| ·喷嘴流场分析 | 第44-47页 |
| ·几何模型的建立 | 第44页 |
| ·二维有限元模型的建立 | 第44-45页 |
| ·三维有限元模型的建立 | 第45-47页 |
| ·喷嘴工艺参数对多层膜影响的实验研究 | 第47-52页 |
| ·喷嘴尺寸对多层膜的影响研究 | 第48-49页 |
| ·喷嘴流量对多层膜的影响研究 | 第49-52页 |
| ·喷嘴参数的综合评定 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 Si 表面喷射电沉积 Cu/Co 多层膜的性能研究 | 第53-65页 |
| ·调制波长对多层膜的影响研究 | 第53-55页 |
| ·调制波长对多层膜表面形貌的影响研究 | 第53-54页 |
| ·调制波长对多层膜耐腐蚀性能的影响研究 | 第54-55页 |
| ·子层厚度对多层膜的影响研究 | 第55-59页 |
| ·子层厚度对多层膜表面形貌的影响研究 | 第55-57页 |
| ·子层厚度对多层膜耐腐蚀性能的影响研究 | 第57-59页 |
| ·基底粗糙度对多层膜的影响研究 | 第59-62页 |
| ·基底粗糙度对多层膜表面形貌的影响研究 | 第60-61页 |
| ·基底粗糙度对多层膜耐腐蚀性能的影响研究 | 第61-62页 |
| ·多层膜的截面形貌和 XRD 分析 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·本文小结 | 第65-66页 |
| ·未来工作展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |